[发明专利]抛光垫

权利要求书

1.一种抛光垫，具有抛光表面，所述抛光表面上设有多个研磨槽，其特征在于，多个所述研磨槽包括多个主研磨槽和多个子研磨槽，多个所述主研磨槽呈网格状分布并界定出呈阵列分布的多个矩形区域，每个所述矩形区域中分别设有至少一个所述子研磨槽。

2.根据权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，多个所述主研磨槽包括：

多个第一主研磨槽，分别沿第一方向延伸，且多个所述第一主研磨槽在垂直于所述第一方向的第二方向上平行间隔分布；以及

多个第二主研磨槽，分别沿所述第二方向延伸，且多个所述第二主研磨槽在所述第一方向上平行间隔分布。

3.根据权利要求2所述的抛光垫，其特征在于，多个所述第一主研磨槽间隔均匀分布，多个所述第二主研磨槽间隔均匀分布。

4.根据权利要求3所述的抛光垫，其特征在于，相邻两个所述第一主研磨槽的间距等于相邻两个所述第二主研磨槽的间距。

5.根据权利要求2所述的抛光垫，其特征在于，相邻两个所述第一主研磨槽的间距为10毫米～15毫米；和/或，相邻两个所述第二主研磨槽的间距为10毫米～15毫米。

6.根据权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，所述矩形区域中的各个所述子研磨槽分别沿所述第一方向延伸，并在所述第二方向上平行间隔分布。

7.根据权利要求6所述的抛光垫，其特征在于，所述矩形区域中的各个所述子研磨槽间隔均匀分布。

8.根据权利要求6所述的抛光垫，其特征在于，相邻两个所述子研磨槽的间距为1毫米～1.5毫米。

9.根据权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，所述矩形区域中的所述子研磨槽包括：

至少一个第一子研磨槽，分别沿所述第一方向延伸，且各个所述第一子研磨槽在所述第二方向上平行间隔分布；以及

至少一个第二子研磨槽，分别沿所述第二方向延伸，且各个所述第二子研磨槽在所述第一方向上平行间隔分布。

10.根据权利要求9所述的抛光垫，其特征在于，各个所述第一子研磨槽间隔均匀分布，各个所述第二子研磨槽间隔均匀分布。

11.根据权利要求10所述的抛光垫，其特征在于，相邻两个所述第一子研磨槽的间距等于相邻两个所述第二子研磨槽的间距。

12.根据权利要求9所述的抛光垫，其特征在于，相邻两个所述第一子研磨槽的间距为1毫米～1.5毫米；和/或，相邻两个所述第二子研磨槽的间距为1毫米～1.5毫米。

13.根据权利要求1～12任意一项所述的抛光垫，其特征在于，所述研磨槽在所述抛光表面上的正投影轨迹呈波浪形，且该波浪形的正投影轨迹符合简谐运动的运动轨迹。

14.根据权利要求13所述的抛光垫，其特征在于，所述研磨槽的正投影轨迹的振幅为80密耳～140密耳。

15.根据权利要求13所述的抛光垫，其特征在于，所述研磨槽的正投影轨迹的一个振动周期所对应的长度为160密耳～240密耳。

16.根据权利要求1～12任意一项所述的抛光垫，其特征在于，定义一参考平面，所述参考平面垂直于所述研磨槽的延伸方向，所述研磨槽的槽腔在所述参考平面上的正投影呈倒梯形。

17.根据权利要求16所述的抛光垫，其特征在于，所述倒梯形具有分别对应于所述研磨槽槽口、槽底和两侧槽壁的上底、下底和两条腰，所述上底的长度大于所述下底，两条所述腰的长度相等。