[发明专利]宽谱光时域整形装置

权利要求书

1.一种宽谱光时域整形装置，其特征在于，包括泵浦源(1)、可调衰减器(2)、输入准直器(4)、可饱和吸收体(5)、小孔(6)和输出准直器(7)；所述泵浦源(1)的输出通过可调衰减器(2)调节输出能量后入射到可饱和吸收体(5)上形成泵浦光光斑；待整形的宽谱光(3)经输入准直器(4)准直后入射到可饱和吸收体(5)上形成宽谱光光斑，准直后的宽谱光一部分被可饱和吸收体(5)吸收，余下部分经可饱和吸收体(5)透射后，经小孔(6)到达输出准直器(7)耦合输出；

所述宽谱光光斑与泵浦光光斑重合，且泵浦光光斑的面积大于宽谱光光斑的面积；

所述的泵浦源(1)为具有灵活时域波形调控能力的光源系统，其输出光的强度高于可饱和吸收体(5)的可饱和阈值，并低于其损伤阈值。

2.根据权利要求1所述一种宽谱光时域整形装置，其特征在于：所述的待整形的宽谱光(3)由带宽为百纳米量级的宽谱光源系统输出，其输出能量低于可饱和吸收体(5)的可饱和阈值。

3.根据权利要求1所述一种宽谱光时域整形装置，其特征在于：所述的小孔(6)的直径大于准直后的宽谱光的直径。

4.根据权利要求1所述一种宽谱光时域整形装置，其特征在于：在待整形的宽谱光的光谱带宽内，所述的可饱和吸收体(5)的对不同波长的透射率一致。