[发明专利]偏振光元件及其制造方法、以及光学设备有效

专利信息
申请号: 201811056018.8 申请日: 2018-09-11
公开(公告)号: CN109557605B 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 武田吐梦 申请(专利权)人: 迪睿合株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李啸;闫小龙
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 偏振光 元件 及其 制造 方法 以及 光学 设备
【权利要求书】:

1.一种偏振光元件,是具有线栅构造的偏振光元件,

其具备:

透明基板;以及

格子状凸部,在所述透明基板上以比使用波段的光波长短的间距排列,并沿既定方向延伸,

所述格子状凸部具有这样的构造:从所述透明基板侧将第1吸收层、第1电介质层、反射层、第2电介质层和第2吸收层按此顺序连接。

2.如权利要求1所述的偏振光元件,其中,

所述格子状凸部在所述透明基板与所述第1吸收层之间具有基座,

所述基座在从所述既定方向观看时具有梯形状。

3.如权利要求2所述的偏振光元件,其中,

所述基座由对于使用波段的光波长透明的Si氧化物构成。

4.如权利要求1至3的任一项所述的偏振光元件,其中,

所述第1吸收层和所述第2吸收层由相同材料构成。

5.如权利要求1至3的任一项所述的偏振光元件,其中,

所述第1电介质层和所述第2电介质层由相同材料构成。

6.如权利要求1至3的任一项所述的偏振光元件,其中,

所述第1吸收层的膜厚和所述第2吸收层的膜厚大致相同,且,所述第1电介质层的膜厚和所述第2电介质层的膜厚大致相同。

7.如权利要求1至3的任一项所述的偏振光元件,其中,

所述透明基板对于使用波段的光波长透明,且由玻璃、石英或蓝宝石构成。

8.如权利要求1至3的任一项所述的偏振光元件,其中,

所述反射层由铝或铝合金构成。

9.如权利要求1至3的任一项所述的偏振光元件,其中,

所述第1电介质层及所述第2电介质层由Si氧化物构成。

10.如权利要求1至3的任一项所述的偏振光元件,其中,

所述第1吸收层及所述第2吸收层包含Fe或Ta,并且包含Si而构成。

11.如权利要求1至3的任一项所述的偏振光元件,其中,

所述偏振光元件的所述格子状凸部侧的表面被由电介质构成的保护膜覆盖。

12.如权利要求1至3的任一项所述的偏振光元件,其中,

所述偏振光元件的所述格子状凸部侧的表面被有机类憎水膜覆盖。

13.如权利要求1至3的任一项所述的偏振光元件,其中,

形成在所述格子状凸部的前端的栅前端部,在从所述既定方向观看时,具有侧面在越到前端侧宽度越变窄的方向倾斜的细尖形状。

14.如权利要求1至3的任一项所述的偏振光元件,其中,

所述反射层具有:金属层;以及氧化物层,从所述既定方向观看时,所述氧化物层覆盖所述金属层的侧面,并由构成所述金属层的金属的氧化物构成。

15.如权利要求1至3的任一项所述的偏振光元件,其中,

所述反射层的宽度小于所述第1电介质层及所述第2电介质层的宽度。

16.一种偏振光元件的制造方法,该偏振光元件是具有线栅构造的偏振光元件,所述制造方法具有:

在透明基板上形成层叠体的工序,所述层叠体从所述透明基板侧将第1吸收层、第1电介质层、反射层、第2电介质层和第2吸收层按此顺序连接;以及

通过选择性蚀刻所述层叠体,形成以比使用波段的光波长短的间距排列在所述透明基板上的格子状凸部的工序。

17.一种具备权利要求1至15的任一项所述的偏振光元件的光学设备。

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