[发明专利]一种长焦大离轴量离轴抛物面的制造方法有效
申请号: | 201811056441.8 | 申请日: | 2018-09-11 |
公开(公告)号: | CN109163663B | 公开(公告)日: | 2020-09-11 |
发明(设计)人: | 胡建军;潘君骅;钱煜;王伟 | 申请(专利权)人: | 苏州如期光电科技有限公司 |
主分类号: | G01B11/02 | 分类号: | G01B11/02;G01B11/26;G01B11/27;G01B11/255;G01B11/00 |
代理公司: | 苏州智品专利代理事务所(普通合伙) 32345 | 代理人: | 王利斌 |
地址: | 215131 江苏省苏州市相城区经济开发区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 长焦大离轴量离轴 抛物面 制造 方法 | ||
1.一种长焦大离轴量离轴抛物面的制造方法,根据长焦大离轴量离轴抛物面的技术参数计算出最佳起始球面的曲率半径;制作镜坯,做出最佳起始球面;研磨阶段中,根据三坐标测试得到的表面误差分布,将最佳起始球面研磨成所述的长焦大离轴量离轴抛物面;抛光阶段中,使用干涉检测方法获得表面误差分布,经过若干个抛光检测循环,表面误差收敛至期望值;其特征在于:
所述的干涉检测方法为:沿着干涉仪发出的光波传播方向依次排布发散镜头、标准球面反射镜、标准平面反射镜,所述的发散镜头将干涉仪发出的光波调制成发散的球面波,发散的球面波经标准球面反射镜反射入射至被测长焦大离轴量离轴抛物面,经被测长焦大离轴量离轴抛物面反射后的光波为平面波,所述平面波垂直入射至标准平面反射镜后原路返回;所述的标准球面反射镜与被测长焦大离轴量离轴抛物面组成偏轴两镜系统,且所述发散镜头虚焦点和偏轴两镜系统的像点重合。
2.根据权利要求1所述的长焦大离轴量离轴抛物面的制造方法,其特征在于:在抛光的粗抛阶段,用刀口仪进行阴影检验;由平行光管提供大口径平行光束,平行光束和被测长焦大离轴量离轴抛物面的母抛物面光轴平行,平行光束经被测长焦大离轴量离轴抛物面反射后会聚在该抛物面的焦点F,在所述焦点F处的焦平面上用两维刀口对被测长焦大离轴量离轴抛物面的会聚波前进行阴影检验。
3.根据权利要求2所述的长焦大离轴量离轴抛物面的制造方法,其特征在于:步骤一,根据技术参数求解长焦大离轴量离轴抛物面的最佳起始球面的曲率半径;
步骤二,加工检验用标准球面反射镜;制作镜坯,做出最佳起始球面;加工一个方形金属镜框,将镜坯装入并封闭缝隙;在镜框一侧的中间及镜坯的对应位置分别作出标记;
步骤三,使用三坐标测量机测量获取长焦大离轴量离轴抛物面的表面误差分布,在镜面上标记出高低带;
步骤四,使用研磨工艺对长焦大离轴量离轴抛物面研磨;
步骤五,重复检测研磨,直到长焦大离轴量离轴抛物面的表面误差PV值小于所述三坐标测量机的测量精度;
步骤六,在抛光的粗抛阶段,用刀口仪进行阴影检验;竖起镜框,使被测长焦大离轴量离轴抛物面朝向检验用平行光管,调好检测光路,观察被测长焦大离轴量离轴抛物面上阴影图分布,将所述的阴影图分布与三坐标测量结果比对,根据阴影图分布规划加工区域;
步骤七,使用所述的干涉检测方法获取表面误差分布。
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