[发明专利]一种分子泳镀纳米二硫化钼涂层的制备工艺

权利要求书

1.一种分子泳镀纳米二硫化钼涂层的制备工艺，其特征在于，包括步骤：

(1)将纳米二硫化钼粉末和阴离子或阳离子水性树脂以及功能助剂混合均匀，制备成泳镀液，备用；

(2)将工件经去油、除尘、喷砂、清洗处理后，并干燥至无水；

(3)将工件置入泳镀液中，在泳镀液加载电荷场，使泳镀液中的阳极(或阴极)离子承载纳米二硫化钼分子、粘结树脂分子及助剂离子做定向移动，在工件表面沉积形成纳米二硫化钼膜层；

(4)将工件自泳镀液中取出，经清洗、固化、冷却后，即得。

2.根据权利要求1所述的分子泳镀纳米二硫化钼涂层的制备工艺，其特征在于，步骤(2)中采用80～120目石英砂进行喷砂处理，干燥温度为80～100℃。

3.根据权利要求1所述的分子泳镀纳米二硫化钼涂层的制备工艺，其特征在于，步骤(1)中按质量百分比计，所述泳镀液由25～30％的纳米二硫化钼粉末、40～50％的阴离子或阳离子水性树脂、4～9％助剂以及余量的溶剂配制而成。

4.根据权利要求1所述的分子泳镀纳米二硫化钼涂层的制备工艺，其特征在于，所述泳镀液的粘度为20～30S(25℃蔡恩2#杯)，固含量为30～45％。

5.根据权利要求1所述的分子泳镀纳米二硫化钼涂层的制备工艺，其特征在于，步骤(1)中所述阴离子或阳离子水性树脂选自环氧改性丙烯酸、环氧改性聚氨酯中的一种或两种。

6.根据权利要求1所述的分子泳镀纳米二硫化钼涂层的制备工艺，其特征在于，步骤(1)中所述功能助剂为分散剂、流平剂和抗结皮剂。

7.根据权利要求1所述的分子泳镀纳米二硫化钼涂层的制备工艺，其特征在于，步骤(1)中所述溶剂选自纯净水、乙醇、乙二醇丁醚(BCS)中的一种或几种。

8.根据权利要求1所述的分子泳镀纳米二硫化钼涂层的制备工艺，其特征在于，步骤(3)中所采用的泳镀工艺为：直流电压为DC10～150V；电流为5～20A；槽液温度为常温～60℃。

9.根据权利要求1所述的分子泳镀纳米二硫化钼涂层的制备工艺，其特征在于，步骤(4)中，固化温度为160℃；固化时间为20～40min；冷却温度至常温。

10.根据权利要求1所述的分子泳镀纳米二硫化钼涂层的制备工艺，其特征在于，步骤(4)中，制得的工件表面纳米二硫化钼涂层的厚度为2～25μm，涂层附着力为1～2级，涂层均匀度误差为2μm以内。