[发明专利]光刻胶组合物及彩色滤光片

说明书

本发明公开一种光刻胶组合物及彩色滤光片。所述光刻胶组合物包含︰4至10重量份的树脂基体；5至8重量份的着色剂；大于0且小于或等于5重量份的自由基聚合单体；大于0且小于或等于0.2重量份的自由基光引发剂；大于0且小于或等于0.002重量份的阳离子光引发剂，其中所述阳离子光引发剂的最大吸收波长在介于280至400纳米之间；及70至80重量份的溶剂。所述光刻胶组合物不受活性氧原子的影响，有利于提升光刻胶组合物与基板之间的附着力，并且适用于高色域或者高色浓度的彩色光刻胶组合物。

技术领域

本发明涉及液晶显示面板技术领域，尤其涉及一种光刻胶组合物及彩色滤光片。

背景技术

液晶显示器(liquid crystal display，LCD)是目前市场中应用最广泛的现实产品。例如，薄膜晶体管液晶显示器(thin film transistor liquid crystal display，TFT-LCD)主要包括彩色滤光片(color filter，CF)基板、液晶、薄膜晶体管(Thin FilmTransistor，TFT)基板三个组成部分。CF基板上的红、绿、蓝(即RGB)三色像素点分别对应薄膜晶体管基板上的三个子像素，三个子像素合成一个像素。液晶显示器的色彩显示主要是依靠彩色滤光片基板上RGB三色像素点实现的。RGB三色像素点则是通过RGB三种不同体系的光刻胶成膜形成设计需求的图案结构，进而完成协助显示颜色。

RGB负性光刻胶(photoresist)是在光刻胶混合物中加入光引发剂、分散树脂、颜料/染料(着色剂)、反应性单体等，并通过紫外线(UV)光照下进行固化反应而形成图案。在RGB负性光刻胶的膜厚达到一定厚度时，在光固化反应过程中，底层与表层反应程度不一致，容易产生光刻胶剥落(peeling)等问题。上述光刻胶剥落的问题，可通过提升光刻胶材料与基板之间的附着力来克服。一般而言，可通过提高底层反应程度及硬化度来提高附着力。但是，在实际制程中，RGB涂布之前会进行超紫外光(EUV)或者深紫外光(DUV)的清洗过程。这个清洗过程中会产生一些活性氧原子，这些活性氧原子会对自由基聚合的引发剂产生影响，造成引发剂失去活性，而无法提高附着力。

对于上述问题，虽然可通过在光刻胶组合物中添加氧阻聚剂类物质来消耗活性氧原子，从而提高光刻胶组合物的反应效率。然而，对于高色域或者高色浓度的彩色光刻胶组合物而言，由于颜料或者染料成分含量较高，所以添加氧阻聚剂类物质的方式会使得彩色光刻胶组合物中的其他材料成分的比例受到限制。

故，有必要提供一种光刻胶组合物及彩色滤光片，以解决现有技术所存在的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种光刻胶组合物及彩色滤光片，以解决现有技术所存在的添加氧阻聚剂类物质的方式会使得彩色光刻胶组合物中的其他材料成分的比例受到限制的问题。

本发明的一目的在于提供一种光刻胶组合物及彩色滤光片，其是通过加入少量的阳离子光引发剂，以使光刻胶组合物不受活性氧原子的影响，进而提升光刻胶组合物与基板之间的附着力，并且可适用于高色域或者高色浓度的彩色光刻胶组合物。

为达成本发明的前述目的，本发明一实施例提供一种光刻胶组合物，其中所述光刻胶组合物包含︰4至10重量份的树脂基体；5至8重量份的着色剂；大于0且小于或等于5重量份的自由基聚合单体；大于0且小于或等于0.2重量份的自由基光引发剂；大于0且小于或等于0.002重量份的阳离子光引发剂，其中所述阳离子光引发剂的最大吸收波长在介于280至400纳米之间；及70至80重量份的溶剂。

在本发明的一实施例中，所述阳离子光引发剂选自于二芳基碘鎓盐及其衍生物所组成的一族群。

在本发明的一实施例中，所述二芳基碘鎓盐的衍生物是由下列所组成的一族群所选出：

及

其中：