[发明专利]一种应用于RTP的蚀刻工具及工艺在审
| 申请号： | 201811060020.2 | 申请日： | 2018-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN109358437A | 公开（公告）日： | 2019-02-19 |
| 发明（设计）人： | 黄华达 | 申请（专利权）人： | 东莞通华液晶有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13 |
| 代理公司： | 东莞市冠诚知识产权代理有限公司 44272 | 代理人： | 莫杰华 |
| 地址： | 523000 *** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蚀刻 蚀刻膏 丝印网 蚀刻工艺步骤 表面印刷 工艺生产 工艺效率 蚀刻工艺 纵横交织 金属丝 网孔 线径 应用 | ||
1.一种应用于RTP的蚀刻工具，其特征在于：用于在ITO层表面印刷蚀刻膏，丝印网由金属丝纵横交织而成，形成的网孔密度为320-400个/英寸，线径为18-30μm，孔径为39-55μm。
2.根据权利要求1所述的一种应用于RTP的蚀刻工具，其特征在于：所述金属线为不锈钢线。
3.根据权利要求1所述的一种应用于RTP的蚀刻工具，其特征在于：纵向所述金属线相对于刮刀印刷方向的夹角α为22.5±0.5度。
4.一种应用于RTP的蚀刻工艺，其特征在于，包括以下步骤：
1）印蚀刻膏，利用如权利要求1-3任一所述的丝印网将蚀刻膏在ITO层表面印刷出对应的设计图案；
2）蚀刻ITO，待蚀刻膏印刷完毕后，加热并等待充分腐蚀；
3）去除蚀刻膏，待腐蚀完毕后，采用碱液浸泡以清洗蚀刻膏。
5.根据权利要求4所述的一种应用于RTP的蚀刻工艺，其特征在于：在所述步骤1）印蚀刻膏之前对ITO层进行烘烤。
6.根据权利要求5所述的一种应用于RTP的蚀刻工艺，其特征在于：烘烤的温度为150±5℃，烘烤的时间为1±0.1h。
7.根据权利要求4所述的一种应用于RTP的蚀刻工艺，其特征在于：在所述步骤2）中，加热的温度为80±5℃，腐蚀的时间为15±1min。
8.根据权利要求4所述的一种应用于RTP的蚀刻工艺，其特征在于：在所述步骤3）中，碱液为采用0.1%浓度的NaOH溶液，并且在35±1℃的条件下浸泡20±1min。
9.根据权利要求4所述的一种应用于RTP的蚀刻工艺，其特征在于：应用在355mm*406mm范围的玻璃基板上。
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