[发明专利]一种基于等离聚焦的近场扫描探针有效
申请号: | 201811060049.0 | 申请日: | 2018-09-12 |
公开(公告)号: | CN109374928B | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
发明(设计)人: | 顾忠泽;赵祥伟;孙良栋;陈洪渊 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | G01Q60/22 | 分类号: | G01Q60/22 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 210000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 聚焦 近场 扫描 探针 | ||
1.一种基于等离聚焦的近场扫描探针,其特征在于,包括光纤(1)和波导结构,所述的光纤(1)中央设有贯穿其长度方向的通光孔(2),光纤(1)端面设有波导结构,所述的波导结构包括支架(3)和聚焦结构(4),所述的支架(3)位于光纤(1)和聚焦结构(4)之间,所述的聚焦结构(4)采用锥体结构,并覆盖光纤(1)端面的通光孔(2),所述的聚焦结构(4)由部分球体基座和锥体组成,所述球体基座的一端与光纤(1)端面连接,另一端与锥体的侧面相切,锥体的另一侧面与光纤(1)的端面倾斜连接,其尖端超出光纤(1)的侧面。
2.根据权利要求1所述的一种基于等离聚焦的近场扫描探针,其特征在于,所述的聚焦结构(4)采用光刻方法制备,并固化于光纤(1)端面。
3.根据权利要求2所述的一种基于等离聚焦的近场扫描探针,其特征在于,所述的聚焦结构(4)表面镀有金属层。
4.根据权利要求3所述的一种基于等离聚焦的近场扫描探针,其特征在于,所述金属层的厚度为30nm~200nm。
5.根据权利要求1所述的一种基于等离聚焦的近场扫描探针,其特征在于,所述聚焦结构(4)的光能量导入方式包括光纤内部传导和外部照明。
6.根据权利要求1所述的一种基于等离聚焦的近场扫描探针,其特征在于,所述的光纤(1)采用单模或多模光纤。
7.根据权利要求1或6所述的一种基于等离聚焦的近场扫描探针,其特征在于,所述光纤(1)的外径为125μm~800μm。
8.根据权利要求7所述的一种基于等离聚焦的近场扫描探针,其特征在于,所述光纤(1)的端面作抛光处理。
9.根据权利要求1所述的一种基于等离聚焦的近场扫描探针,其特征在于,所述的支架(3)采用圆柱体结构。
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