[发明专利]一种电镀废水生化出水的处理系统及处理方法在审

专利信息
申请号: 201811064871.4 申请日: 2018-09-13
公开(公告)号: CN109095692A 公开(公告)日: 2018-12-28
发明(设计)人: 吴文明;陈圩;马亮;王旭平;唐润丰;李海洋;刘兵 申请(专利权)人: 舒城联科环境科技有限公司
主分类号: C02F9/10 分类号: C02F9/10;C02F103/16
代理公司: 北京双收知识产权代理有限公司 11241 代理人: 陈永庆
地址: 231323 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 输出端 输入端 电镀废水 电渗析单元 反渗透单元 超滤单元 过滤单元 气浮单元 生化出水 暂存单元 处理系统 混凝单元 深度处理 蒸发单元 杀菌 生化废水 依次连接 蒸发技术 物化法 有机物 回用 脱盐
【说明书】:

发明公开了一种电镀废水生化出水的处理系统及处理方法,包括依次连接的杀菌混凝单元、气浮单元、暂存单元、过滤单元、超滤单元、反渗透单元、电渗析单元和蒸发单元;杀菌混凝单元输出端与气浮单元输入端相连,气浮单元输出端与暂存单元输入端相连,暂存单元输出端与过滤单元输入端相连,过滤单元输出端与超滤单元输入端相连,超滤单元输出端与反渗透单元输入端相连,反渗透单元输出端与电渗析单元输入端相连,电渗析单元输出端与蒸发单元输入端相连。本发明利用物化法、膜技术以及蒸发技术协同作用,以除去电镀废水生化出水中的有机物与盐分,实现电镀废水深度处理与脱盐回用,避免常规技术进行电镀废水生化废水深度处理时存在的问题。

技术领域

本发明属于电镀废水处理领域,尤其涉及一种电镀废水生化出水的处理系统及处理方法。

背景技术

电镀是当今全球三大污染工业之一。据不完全统计,我国电镀行业每年排出的电镀废水约有40亿m3。电镀废水的水质复杂,成分不易控制,其中含有的铬、铜、镍、镉、锌、金、银等重金属离子和氰化物,这些金属一经排放,进入环境中不能被生物降解,往往是参与食物链循环,并最终在生物体内积累,破坏生物体正常生理代谢活动,危害人类健康,另外,实现对电镀废水中贵重金属的回收也具有重要经济价值。因此,研究电镀废水处理技术具有重要意义。发展电镀废水处理技术,不仅可以节约水资源,回收重金属,还能有效地解决电镀废水对水体的污染和人体的危害,保护生态环境和人体健康。

电镀过程用水量大,产生的废水毒性大,必须严格处理才能达标排放。由于电镀废水处理过程的工艺限制,处理后的原水虽满足《电镀污染物排放标准》(GB 21900–2008),却因为含盐分较高而不能回用于生产线,必须经过脱盐处理才行。电镀废水脱盐处理的常规处理技术已经比较成熟,关键是要运用新技术对其进行深度处理,进一步提高出水水质。膜处理技术因其分离效率高,在电镀废水处理中占据重要的地位。同时如何在已有处理设施的基础上,增加一套简便、有效的组合工艺,提高处理效果,也将是未来研究的方向。

因此,针对电镀废水生化出水的特点及现有处理技术存在的缺陷,本发明提出一种适用于电镀废水生化出水深度处理与脱盐回用的方法。其特点是利用物化法、膜技术以及蒸发技术协同作用,以除去电镀废水生化出水中的有机物与盐分,实现电镀废水深度处理与脱盐回用,避免常规技术进行电镀废水生化废水深度处理时存在的淡水回用率低、浓水浓缩倍数底、处理成本高、系统运行不稳定等问题,促进电镀废水生化出水深度处理与脱盐回用技术在电镀、工业等行业废水深度处理与废水资源化的工程化应用。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术存在的以上问题,提供一种电镀废水生化出水的处理系统及处理方法,利用物化法、膜技术以及蒸发技术协同作用,以除去电镀废水生化出水中的有机物与盐分,实现电镀废水深度处理与脱盐回用,避免常规技术进行电镀废水生化废水深度处理时存在的淡水回用率低、浓水浓缩倍数底、处理成本高、系统运行不稳定等问题,促进电镀废水生化出水深度处理与脱盐回用技术在电镀等行业废水深度处理与废水资源化的工程化应用,可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述技术目的,达到上述技术效果,本发明通过以下技术方案实现:

一种电镀废水生化出水的处理系统,包括依次连接的杀菌混凝单元、气浮单元、暂存单元、过滤单元、超滤单元、反渗透单元、电渗析单元和蒸发单元;

所述杀菌混凝单元输出端与气浮单元输入端相连,气浮单元输出端与暂存单元输入端相连,暂存单元输出端与过滤单元输入端相连,过滤单元输出端与超滤单元输入端相连,超滤单元输出端与反渗透单元输入端相连,反渗透单元输出端与电渗析单元输入端相连,电渗析单元输出端与蒸发单元输入端相连;

所述杀菌混凝单元用于对生化出水进行杀菌并去除其中的絮凝体,然后形成杀菌混凝处理液输出至气浮单元;

所述气浮单元用于对杀菌混凝处理液进行气浮分离,使得悬浮颗粒上浮并分离,然后形成气浮处理液输出至暂存单元;

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