[发明专利]一种太阳电池铜栅线图形形成的大规模制造方法

权利要求书

1.一种太阳电池铜栅线图形形成的大规模制造方法，其特征在于：所述方法包括如下步骤：

太阳电池片以单片连续流片方式在正反两面覆盖感光膜；

覆盖感光膜后的太阳电池片以自动上料方式放置于曝光机的玻璃台面；

至少两片太阳电池片在曝光机内同时曝光正反两面；

曝光后的太阳电池片以自动下料方式从曝光机送出后以单片连续流片方式流至显影机、电镀机、去膜机完成显影、电镀、去膜。

2.根据权利要求1所述一种太阳电池铜栅线图形形成的大规模制造方法，其特征在于：所述感光膜为干膜或湿膜中的一种。

3.根据权利要求1所述一种太阳电池铜栅线图形形成的大规模制造方法，其特征在于：所述在太阳电池片的正反两面覆盖感光膜采用滚筒贴膜、浸涂、喷涂、辊涂方式中的至少一种。

4.根据权利要求3所述一种太阳电池铜栅线图形形成的大规模制造方法，其特征在于：所述覆盖感光膜后的太阳电池片侧面分为被感光膜包覆和不被感光膜包覆，所述太阳电池片侧面不被感光膜包覆，则感光膜的覆盖范围等同于太阳电池片的面积或者小于太阳电池片的面积，若感光膜的覆盖范围小于太阳电池片的面积，则感光膜的边缘距离太阳电池片的边缘不超过1.5mm。

5.根据权利要求1所述一种太阳电池铜栅线图形形成的大规模制造方法，其特征在于：所述曝光机采用接触式曝光机或者非接触式曝光机。

6.根据权利要求1所述一种太阳电池铜栅线图形形成的大规模制造方法，其特征在于：所述曝光机同时曝光2-24片太阳电池片的正反两面。

7.根据权利要求1所述一种太阳电池铜栅线图形形成的大规模制造方法，其特征在于：所述太阳电池片在曝光机内同时曝光正反两面时的位置通过限位框、真空吸附或者限位框加真空吸附的方式固定在曝光台面上。

8.根据权利要求7所述一种太阳电池铜栅线图形形成的大规模制造方法，其特征在于：所述限位框的尺寸比电池片的尺寸宽0.3-1mm，高度与电池片的厚度保持一致，误差范围在100-160um内，所述限位框材料采用对紫外光反射率低的金属或者塑料。