[发明专利]植体结构及其制备方法

说明书

本发明公开一种植体结构及其制备方法，制备方法包含以下步骤：提供一植体成品；将含有硅氧类分子（Siloxane）单体分解为离子状态，并其于植体表面形成镀膜；于植体表面沾附一可与硅氧烷镀膜产生共价键结合的交联剂；于交联剂外涂布功能性分子，使其产生化学键结而保留于植体表面，藉此完成植体电浆镀膜与分子交联结构。

技术领域

本发明涉及植牙领域，尤其涉及一种植体结构及其制备方法。

背景技术

一般骨内植入物如人工牙根（植体），手术后需要数个月的恢复期，才能使骨骼重新生长并与植体结合，或是称为骨整合。而骨整合的效率与植体的稳固度有直接关系，当植体摇动时，骨整合无法进行，因此医师通常于手术时，会使植体尺寸略大于骨骼上的孔洞尺寸，透过骨骼压迫植体而产生较佳的初期稳定度。

植牙手术后的两周内，受损骨骼会被人体分解吸收，此时植体会产生松动。

但是植体因受力而摇动时，会使骨细胞无法生长，进而导致骨整合失败，也正因为如此，习用的植牙成功率通常较低。

此外，植体于骨整合期间除了可能发生上述问题外，由于植体并不像自然骨骼有血管网络，植体对于病菌的抑制力较差，因此容易引发“植体周围炎”等并发症，若患者不能做好口腔清洁，进而引发植体周围炎时，则植牙失败率高达20~30%。

从上述可知，患者于植牙手术并植入植体时，植体将立即暴露于口腔的恶劣环境中，且需要承受患者咀嚼时的机械力及病菌的滋生，将大幅降低植牙成功率。

由此可见，上述习用植牙方法仍有诸多缺失，实非一良善设计者，而亟待加以改良。

本案发明人鉴于上述习用植牙方法所衍生的各项缺点，乃亟思加以改良创新，并经多年苦心孤诣潜心研究后，终于成功研发完成本件发明专利。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明的目的之一是提供一种植体结构的制备方法。

为了实现上述目的，本发明采用的技术方案为：

一种植体结构的制备方法，包含以下步骤：

步骤1：提供一植体成品；

步骤2：将含有硅氧类分子的单体分解为离子状态，并其于植体表面形成镀膜；

步骤3：于植体表面沾附或涂布或浸泡一可与硅氧烷镀膜产生共价键结合的交联剂；

步骤4：于交联剂外涂布功能性分子，使其产生化学键结而保留于植体表面。

所述交联剂为化学交联剂或天然交联剂或其组合，且为分子黏胶。

所述交联剂为京尼平或原花青素。

所述功能性分子为骨生长促进分子，用以缩短骨整合时间。

所述功能性分子为抗菌分子，用以减少植体周围炎的发生率。

本发明的另一目的是提供一种植体结构，其包含：

一植体，包含有一人工牙根及设置于该人工牙根上的基座；

含有硅氧类分子的单体，镀膜于植体表面；

交联剂，沾附于镀膜后的植体表面；

功能性分子，沾附或涂布或浸泡于交联剂外并产生化学键结，使该功能性分子保留于植体表面。

所述含有硅氧类分子的单体分解为离子状态后镀膜于植体表面。

所述交联剂为化学交联剂或天然交联剂或其组合，且为分子黏胶。

所述功能性分子为骨生长促进分子或抗菌分子。

所述交联剂为京尼平或原花青素。