[发明专利]溅射装置及其使用方法

说明书

提供一种能够提高冷却液的排出性的溅射装置及其使用方法，其特征在于，具有：环状的第一冷却液流路(R1)，形成于靶(110)和磁铁单元(130)之间，流过冷却靶(110)的冷却液；第二冷却液流路(R2)，设置于磁铁单元(130)的内部，流过所述冷却液；以及排液装置(P2)，从第一冷却液流路(R1)朝向第二冷却液流路(R2)送入使所述冷却液排出的气体，并且第一冷却液流路(R1)和第二冷却液流路(R2)的连接部位(RJ)构成为能够配置于环状的第一冷却液流路(R1)中的偏铅垂方向下方的位置。

技术领域

本发明涉及磁控溅射方式的溅射装置及其使用方法。

背景技术

已知有如下的技术：在磁控溅射方式的溅射装置中，成为阴极的靶由圆筒状的构件构成，且构成为在进行溅射时旋转。在该技术中，靶附近的等离子体成为高温，靶和磁铁被加热。若靶成为高温，则可能会损伤，若磁铁变得高温则会减磁或者消磁。另外，在靶由衬管和通过粘接剂粘接于该衬管的外周面的靶材料构成的情况下，粘接剂可能会融化。因此，在上述那样的溅射装置中，设置有用于冷却靶和磁铁的冷却液流路。

另外，在如上所述的溅射装置中，磁铁等被单元化，装卸自由地构成于圆筒状的靶的内部。由此，能够容易地进行将磁铁等单元化了的磁铁单元的维护。

但是，由于在维护时若磁铁单元的内部残留有较多冷却液，则会在维护时带来阻碍，因此，优选在从靶内部取出磁铁单元之前尽可能使冷却液排出。参照图11及图12对现有例的溅射装置中的冷却液排出机构说明。图11及图12表示现有例的靶内部的冷却液流路的概略结构。

在现有例中的靶700的内部，设置有形成于靶700和磁铁单元之间的第一冷却液流路R1、设置于磁铁单元的内部的第二冷却液流路R2。在使冷却液W排出的情况下，从第一冷却液流路R1朝向第二冷却液流路送入气体(通常为空气)(参照图11及图12中的实线箭头S)。在送入气体的空间为密闭空间的情况下，冷却液W受到压力，冷却液W从第二冷却液流路R2排出到靶700的外部(参照图11中的虚线箭头T)。

并且，若冷却液W的液面下降至第二冷却液流路R2的内部，则形成从第一冷却液流路R1向第二冷却液流路R2的排出气体的流路(参照图12)。由此，对于冷却液W，变得几乎不施加将冷却液W向靶700的外部压出方向的压力，不再进行冷却液W的排出。这样，由于在现有例的溅射装置中冷却液没有充分排出，因此维护时带来障碍。

另外，已知有如下技术：为了消除这样的问题，通过在冷却液流路内使气囊构件膨胀，来促成冷却液的排出(参照专利文献1)。但是，在这样的技术中，为了使气囊构件膨胀，不仅需要另外的机构，在维护前还会增加用于使气囊构件膨胀的工序。因此，也会增加成本。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2013-100568号公报

发明内容

[本发明所要解决的问题]

本发明的目的在于提供一种能够提高冷却液的排出性的溅射装置及其使用方法。

[用于解决课题的手段]

本发明为了解决上述课题而采用以下的手段。

即，本发明的溅射装置是在靶与基板之间形成磁场的状态下进行溅射的磁控溅射方式的溅射装置，在所述基板形成由所述靶的构成原子形成的薄膜，所述溅射装置的特征在于，具备：

圆筒状的所述靶，设置于与所述基板相对的位置，且在溅射时旋转；

磁铁单元，具有使所述磁场形成的磁铁和支承该磁铁的支承构件，装卸自如地设置于所述靶的内部；

环状的第一冷却液流路，形成于所述靶和所述磁铁单元之间，冷却所述靶的冷却液流过该第一冷却流路；