[发明专利]涂敷装置以及涂敷方法有效

专利信息
申请号: 201811074894.3 申请日: 2018-09-14
公开(公告)号: CN109530166B 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 山仲巨刚 申请(专利权)人: 株式会社斯库林集团
主分类号: B05C9/14 分类号: B05C9/14;B05C5/02;B05C11/10
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 宋晓宝;向勇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 装置 以及 方法
【权利要求书】:

1.一种涂敷装置,对长带状的基材进行间歇涂敷,其中,

所述涂敷装置具有:

搬运部,将所述基材沿长度方向搬运;

第一涂敷头,配置在所述基材的一个面侧,并且具有沿着所述一个面在与所述长度方向正交的方向上延伸且与所述一个面相对的狭缝状的第一喷出口;

第二涂敷头,配置在所述一个面侧,相比所述第一涂敷头更靠利用所述搬运部搬运所述基材的搬运方向的下游侧,并且具有沿着所述一个面在与所述长度方向正交的方向上延伸且与所述一个面相对的狭缝状的第二喷出口;

涂敷液供给机构,通过分别向所述第一涂敷头和所述第二涂敷头间歇地供给含有用于在基材上形成电极的电极材料的涂敷液,分别从所述第一涂敷头和所述第二涂敷头朝向所述基材的所述一个面间歇地喷出所述涂敷液;以及

控制部,对所述涂敷液供给机构进行控制,以通过第二涂敷头分别在被通过所述第一涂敷头间歇地形成在所述基材的所述一个面上的多个涂敷膜中的相邻的涂敷膜夹着的所述一个面上的多个区域形成涂敷膜,

第二涂敷头的第二喷出口和所述一个面中的与所述第二喷出口相对的第二部分之间的间隔,比所述第一涂敷头的所述第一喷出口和所述一个面中的与所述第一喷出口相对的第一部分之间的间隔大,

所述第二涂敷头包括用于规定所述第二涂敷头的所述第二喷出口的所述搬运方向上的上游侧顶端部和下游侧顶端部,

所述上游侧顶端部与所述基材的所述一个面的所述第二部分之间的间隔和所述下游侧顶端部与所述第二部分之间的间隔不同。

2.如权利要求1所述的涂敷装置,其中,

所述第二涂敷头的所述上游侧顶端部相比所述下游侧顶端部更靠近所述基材的所述一个面。

3.如权利要求1所述的涂敷装置,其中,

所述第二涂敷头的所述下游侧顶端部相比所述上游侧顶端部更靠近所述基材的所述一个面。

4.一种涂敷方法,对长带状的基材进行间歇涂敷,其中,

所述涂敷方法具有:

搬运工序,将所述基材沿长度方向搬运;

涂敷液喷出工序,与所述搬运工序并行执行,分别从第一涂敷头和第二涂敷头朝向所述基材的一个面间歇地喷出涂敷液,所述第一涂敷头配置在所述基材的一个面侧,并且具有沿着所述一个面在与所述长度方向正交的方向上延伸且与所述一个面相对的狭缝状的第一喷出口,所述第二涂敷头配置在所述一个面侧,相比所述第一涂敷头更靠所述搬运工序中的所述基材的搬运方向的下游侧,并且具有沿着所述一个面在与所述长度方向正交的方向上延伸且与所述一个面相对的狭缝状的第二喷出口,

所述涂敷液喷出工序是如下工序:分别从所述第一涂敷头和所述第二涂敷头喷出所述涂敷液,以通过第二涂敷头分别在被通过所述第一涂敷头间歇地形成在所述基材的所述一个面上的多个涂敷膜中的相邻的涂敷膜夹着的所述一个面上的多个区域形成涂敷膜,

第二涂敷头的第二喷出口和所述一个面中的与所述第二喷出口相对的第二部分之间的间隔,比所述第一涂敷头的所述第一喷出口和所述一个面中的与所述第一喷出口相对的第一部分之间的间隔大,

所述涂敷液含有用于在基材上形成电极的电极材料,

所述第二涂敷头包括用于规定所述第二涂敷头的所述第二喷出口的所述搬运方向上的上游侧顶端部和下游侧顶端部,

所述上游侧顶端部与所述基材的所述一个面的所述第二部分之间的间隔和所述下游侧顶端部与所述第二部分之间的间隔不同。

5.如权利要求4所述的涂敷方法,其中,

所述第二涂敷头的所述上游侧顶端部相比所述下游侧顶端部更靠近所述基材的所述一个面。

6.如权利要求4所述的涂敷方法,其中,

所述第二涂敷头的所述下游侧顶端部相比所述上游侧顶端部更靠近所述基材的所述一个面。

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