[发明专利]基板清洁组合物、基板处理方法、以及基板处理设备

权利要求书

1.一种用于处理基板的基板清洁组合物，其包括：

共溶剂；以及

粘结剂，所述粘结剂包括化学式1的化合物、亚硫酸二甲酯、亚硫酸二乙酯、或其组合

[化学式1] O＝P-(O-R)₃,R:CH₃-(CH₂)_n-1，n：自然数。

2.根据权利要求1所述的基板清洁组合物，其中，所述粘结剂为磷酸三甲酯。

3.根据权利要求1所述的基板清洁组合物，其还包括：

含氟刻蚀化合物。

4.根据权利要求3所述的基板清洁组合物，其中，所述刻蚀化合物包括氟化氢。

5.根据权利要求1所述的基板清洁组合物，其中，所述共溶剂为醇。

6.根据权利要求1所述的基板清洁组合物，其中，所述共溶剂为异丙醇、甲醇、乙醇、或其组合。

7.根据权利要求1所述的基板清洁组合物，其中，所述共溶剂的重量百分数为45-97wt％，以及磷酸三甲酯的重量百分数为3-55wt％。

8.根据权利要求3所述的基板清洁组合物，其中，所述刻蚀化合物的重量百分数为0.1-1wt％，所述共溶剂的重量百分数为45-97wt％，以及所述粘结剂的重量百分数为3-55wt％。

9.根据权利要求3所述的基板清洁组合物，其中，所述刻蚀化合物的重量百分数小于1wt％，以及所述共溶剂与所述粘结剂的重量比为1:1。

10.根据权利要求1所述的基板清洁组合物，其中，所述基板清洁组合物清除纳米级(不超过100nm)尺寸的粒子。

11.一种基板清洁组合物，所述组合与待供应的超临界流体混合并包括：

所述基板清洁组合物为包括粘结剂的无水组合物，所述粘结剂包括化学式1的化合物、亚硫酸二甲酯、亚硫酸二乙酯、或其组合

[化学式1] O＝P-(O-R)₃,R:CH₃-(CH₂)_n-1，n：自然数。

12.根据权利要求11所述的基板清洁组合物，其中，所述粘结剂为磷酸三甲酯。

13.根据权利要求11所述的基板清洁组合物，其还包括：含氟刻蚀化合物。

14.根据权利要求13所述的基板清洁组合物，其中，所述刻蚀复合物包括氟化氢。

15.根据权利要求11所述的基板清洁组合物，其中，溶解所述粘结剂的共溶剂为醇。

16.根据权利要求11所述的基板清洁组合物，其中，溶解所述粘结剂的共溶剂为异丙醇、甲醇、乙醇、或其组合。

17.根据权利要求11所述的基板清洁组合物，其中，溶解所述粘结剂的共溶剂的重量百分数为45-97wt％，以及所述粘结剂的重量百分数为3-55wt％。

18.根据权利要求13所述的基板清洁组合物，其中，所述刻蚀化合物的重量百分数为0.1-1wt％，溶解所述粘结剂的共溶剂的重量百分数为45-97wt％，以及所述粘结剂的重量百分数为3-55wt％。

19.根据权利要求13所述的基板清洁组合物，其中，所述刻蚀化合物的重量百分数小于1wt％，以及所述粘结剂与溶解所述粘结剂的共溶剂的重量比为1:1。