[发明专利]制作具有连续变化的取向方向的光取向层的方法

权利要求书

1.一种用于制作具有连续变化的取向方向的光取向层的方法，所述方法包括以下步骤：

在基片上涂覆光取向材料；

将所述基片放置在线性移动装置上；和

将所述基片的涂覆有光取向材料的一侧曝光在光源下，其中所述光源发出的光线穿过偏光片照射到所述基片上涂覆的光取向材料上，以在所述光取向材料上形成具有图案的光取向层,

其中，所述偏光片在平行于所述基片所在的平面内旋转，以使入射曝光光线具有连续变化的偏振方向，

其中，所述光线的偏振方向在基片上被逐行地调制,

其中，当所述偏光片旋转180度时，所述基片移动的距离为预定长度的一个节距(P)。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述基片为透明玻璃或塑料板。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述基片具有卷状形状。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，在所述光源与所述基片之间设置具有狭缝的透光片，并且所述狭缝的长度方向与所述基片的移动方向垂直。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述基片的移动速度(v)、狭缝的面积、预定节距(P)以及基片曝光量、光照量具有以下关系：

6.根据权利要求4所述的方法，其中，所述透光片位于所述偏光片的上方或下方。

7.一种用于制作具有连续变化的取向方向的光取向层的方法，所述方法包括以下步骤：

在基片上涂覆光取向材料；

将所述基片放置在线性移动装置上；和

将所述基片的涂覆有光取向材料的一侧曝光在光源下，其中所述光源发出的光线穿过偏光片照射到所述基片上涂覆的光取向材料上，以在所述光取向材料上形成具有图案的光取向层,

其中，所述偏光片为线性偏光片，并且在所述线性偏光片与所述基片之间设置有连续轴变化半波延迟片，以使所述光源发出的光线依次穿过所述线性偏光片和所述半波延迟片后照射到所述基片，

其中，所述光线的偏振方向在基板上被逐行地调制，

其中，光取向层的节距(P)与连续轴变化的半波延迟片的节距的1/2相关联。

8.一种用于制作具有连续变化的取向方向的光取向层的方法，所述方法包括以下步骤：

在基片上涂覆光取向材料；

将所述基片放置在线性移动装置上；和

将所述基片的涂覆有光取向材料的一侧曝光在光源下，其中所述光源发出的光线穿过偏光片照射到所述基片上涂覆的光取向材料上，以在所述光取向材料上形成具有图案的光取向层,

其中，所述偏光片为线性偏光片，并且在所述线性偏光片与所述基片之间依次设置平面对准楔形液晶单元和输出四分之一波片，以使所述光源发出的光线依次穿过所述平面对准楔形液晶单元和所述输出四分之一波片后照射到所述基片，

其中，通过所述平面对准楔形液晶单元对光线的相位进行逐行地调制，并最终使光线的偏振方向在基板上逐行地连续变化，

其中，所述光取向层的节距(P)与所述输出四分之一波片的节距相关联。

9.一种用于制作具有连续变化的取向方向的光取向层的方法，所述方法包括以下步骤：

在基片上涂覆光取向材料；

将所述基片放置在线性移动装置上；和

将所述基片的涂覆有光取向材料的一侧曝光在光源下，其中所述光源发出的光线穿过偏光片照射到所述基片上涂覆的光取向材料上，以在所述光取向材料上形成具有图案的光取向层,

其中，所述偏光片为线性偏光片，并且在所述线性偏光片与所述基片之间依次设置空间光调制器、输出四分之一波片和投影镜头，以使所述光源发出的光线依次穿过所述空间光调制器、所述输出四分之一波片和所述投影镜头后照射到所述基片，

其中，所述光线的相位被空间光调制器逐行地调制，并最终使光线的偏振方向在基板上逐行地连续变化，

其中，所述光取向层的节距(P)与所述输出四分之一波片的节距相关联。