[发明专利]一种甘草酸二铵原料药溶剂残留的去除方法

说明书

本发明公开了一种甘草酸二铵原料药溶剂残留的去除方法，将合成的甘草酸二铵粗品用混合溶剂进行一次脱色重结晶，离心过滤，减压干燥，放置吸水吸潮后抽滤继续减压干燥得甘草酸二铵原料药，经检测，所得甘草酸二铵原料药的残留溶剂乙醇≤2000ppm，远低于中国药典甘草酸二铵原料药残留溶剂质量标准≤5000ppm，外观为晶型较大的白色颗粒晶体，纯度高，稳定性好。

技术领域

本发明属于甘草酸二铵原料药生产技术领域，具体涉及一种甘草酸二铵原料药溶剂残留的去除方法。

背景技术

甘草酸二铵原料药是中药甘草有效成分的第三代取代物，有较强的抗炎、保护肝细胞膜及改善肝功能的作用。目前甘草酸二铵盐合成后采用多次精制的方法得到甘草酸二铵原料药，需要使用大量溶剂，成本高，且得到的产品溶剂残留较高。经检索，甘草酸二铵原料药溶剂残留的去除方法未见报道。通常溶剂残留的去除方法为干燥，脱溶。经实验，甘草酸二铵原料药残留溶剂采用常规的减压干燥难以达到中国药典残留溶剂标准≤5000ppm，且长时间减压干燥产品会出现颜色变深，部分变质的现象。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术的不足，而提供一种操作简单，产品质量好，成本低的甘草酸二铵原料药溶剂残留的去除方法。

本发明的目的是这样实现的：一种甘草酸二铵原料药溶剂残留的去除方法，包括如下步骤：

步骤A，将甘草酸二铵粗品和混合溶剂加热，溶清后加入活性炭脱色，热滤；

步骤B，将步骤A所得滤液加热，溶清后降温，加入经处理过的晶种，搅拌结晶，离心过滤，得甘草酸二铵湿品；

步骤C，将步骤B所得甘草酸二铵湿品进行减压干燥，得甘草酸二铵一次干品；

步骤D，将步骤C所得甘草酸二铵一次干品放置在空气湿度为65～85%的室内，静置，吸湿；

步骤E，将步骤D所得吸湿后的物料再次进行减压干燥，得低残留溶剂的甘草酸二铵原料药。

优选的，所述步骤A中，混合溶剂为50～55%的乙醇溶液。

优选的，所述步骤A中，甘草酸二铵粗品与混合溶剂的质量比为1：4～5。

优选的，所述步骤B中，加热溶清后降温加入经处理过的晶种的温度为48～52℃。

优选的，所述步骤D中，静置吸湿10小时以上。

优选的，所述步骤D中，室温放置过夜吸湿10～48小时，物料增重6～12%。

优选的，所述步骤C和步骤E中，减压干燥为50～60℃下减压干燥5～8小时。

由于采用了上述技术方案，本发明的有益效果是：本发明经过大量深入的研究，发现甘草酸二铵原料药在空气中易吸湿增重，利用置换原理，找到了有效去除残留溶剂乙醇的方法，将合成的甘草酸二铵粗品用混合溶剂进行一次脱色重结晶，离心过滤，减压干燥，放置吸水吸潮后继续减压干燥得甘草酸二铵原料药，整个过程操作简单，实施成本低；经检测，所得甘草酸二铵原料药的残留溶剂乙醇≤2000ppm，远低于中国药典甘草酸二铵原料药残留溶剂质量标准≤5000ppm，外观为晶型较大的白色颗粒晶体，纯度高，稳定性好，产品质量得到了很大程度的提高。

具体实施方式

下面通过实施例，对本发明的技术方案做进一步具体的说明。

实施例1