[发明专利]帷幕下限动态设计方法及装置

说明书

本发明公开了一种帷幕下限动态设计方法及装置，包括：获取帷幕灌浆孔在已规划的灌段中最下层的M个灌段灌浆的单位注入量；若所述最下层的M个灌段中存在灌段的单位注入量大于受灌地层平均单位注入量的X倍，则在所述最下层的M个灌段的下方增加新的灌段，并更新灌段规划。本发明所提供的帷幕下限动态设计方法，在灌浆施工过程中，根据对灌浆孔的灌段灌浆的实时数据，对帷幕下限进行动态调整，增加了彻底封闭局地侵蚀基准面下渗漏溶隙的机率。

技术领域

本发明涉及水利水电工程技术领域，具体而言，涉及一种帷幕下限动态设计方法及装置。

背景技术

岩溶山区的河流一般河谷深切，谷坡陡峻，水流湍急，具备修建水库大坝的良好地形条件。但是，相伴而生的岩溶及岩溶渗漏问题，却是在岩溶地区兴建水利水电工程首先应该解决的问题，采用防渗帷幕是岩溶地区解决该问题的常用方法。其中，对于防渗帷幕的设置深度，通常在前期依据地质勘察资料，结合场区内岩溶发育规律来确定，但是，由于岩溶工程地质与水文地质条件的复杂性、特殊性，勘察期间不可能将防渗帷幕区的地质情况全部查明、掌握清楚，局地侵蚀基准面以下一定深度范围内可能尚存在局部的溶隙流现象，因此规划的防渗帷幕的下限深度存在无法将溶蚀通道全部封闭的情况。

发明内容

本发明的目的在于提供一种帷幕下限动态设计方法及装置，根据钻孔灌浆过程中实时监测的数据，动态调整帷幕深度，以解决上述问题。

本发明第一方面提供一种帷幕下限动态设计方法，包括：

获取帷幕灌浆孔在已规划的灌段中最下层的M个灌段灌浆的单位注入量；

若所述最下层的M个灌段中存在灌段的单位注入量大于受灌地层平均单位注入量的X倍，则在所述最下层的M个灌段的下方增加新的灌段，并更新灌段规划。

可选地，M＝3，X＝2。

可选地，所述若所述最下层的M个灌段中存在灌段的单位注入量大于受灌地层平均单位注入量的X倍，则在所述最下层的M个灌段的下方增加新的灌段，包括：

判断所述最下层的M个灌段中倒数第三段灌段的单位注入量是否大于所述平均单位注入量的两倍；

若大于，则在已规划的灌段的下方增加新的灌段，并更新灌段规划。

可选地，在判断所述最下层的M个灌段中倒数第三段灌段的单位注入量是否大于所述平均单位注入量的两倍之后，所述方法还包括：

若所述最下层的M个灌段中倒数第三段灌段的单位注入量不大于所述平均单位注入量的两倍，则判断所述最下层的M个灌段中倒数第二段灌段的单位注入量是否大于所述平均单位注入量的两倍；

若所述最下层的M个灌段中倒数第二段灌段的单位注入量大于所述平均单位注入量的两倍，则在已规划的灌段的下方增加新的灌段，并更新灌段规划。

可选地，在判断所述最下层的M个灌段中倒数第二段灌段的单位注入量是否大于所述平均单位注入量的两倍之后，所述方法还包括：

若所述最下层的M个灌段中倒数第二段灌段的单位注入量不大于所述平均单位注入量的两倍，则判断所述最下层的M个灌段中最后一段灌段的单位注入量是否大于所述平均单位注入量的两倍；

若所述最下层的M个灌段中最后一段灌段的单位注入量大于所述平均单位注入量的两倍，则在已规划的灌段的下方增加新的灌段，并更新灌段规划；

若所述最下层的M个灌段中最后一段灌段的单位注入量不大于所述平均单位注入量的两倍，则将所述已规划的灌段确定为最终的灌段规划，并确定所述最终的灌段规划中最后一段灌段的底线为帷幕下限。

可选地，在所述获取帷幕灌浆孔在已规划的灌段中最下层的M个灌段灌浆的单位注入量之前，所述方法还包括：