[发明专利]一种二次放射性洗消废液的处理系统及处理方法

权利要求书

1.一种二次放射性洗消废液的处理系统，其特征在于：该处理系统包括依次连接的进水池(1)、水泵(2)、自清洗过滤器(3)、微滤设备(4)、活性炭吸附床(5)、Cs吸附床(6)及出水池(7)，所述进水池(1)与水泵(2)之间通过第一水管(10)连接，所述第一水管(10)上设置有第一手动球阀(11)，所述水泵(2)与自清洗过滤器(3)之间通过第二水管(20)连接，所述第二水管(20)上设置有第二手动球阀(21)、第一电磁阀(12)及第一压力传感器(13)，所述自清洗过滤器(3)与微滤设备(4)之间通过第三水管(30)连接，所述第三水管(30)上设置有第二电磁阀(22)和第二压力传感器(23)，所述微滤设备(4)与活性炭吸附床(5)之间通过第四水管(40)连接，所述第四水管(40)上设置有第三手动球阀(31)和第三压力传感器(33)，所述活性炭吸附床(5)与所述Cs吸附床(6)之间通过第五水管(50)连接，所述第五水管(50)上设置有第四手动球阀(41)和第四压力传感器(43)，所述Cs吸附床(6)与所述出水池(7)之间通过第六水管(60)连接。

2.根据权利要求1所述的二次放射性洗消废液的处理系统，其特征在于：该处理系统还包括第三电磁阀(32)和离子交换床(8)，所述第三电磁阀(32)设置于所述第六水管(60)上，所述离子交换床(8)与所述第三电磁阀(32)并联设置，所述离子交换床(8)与所述Cs吸附床(6)之间通过第七水管(70)连接，所述离子交换床(8)与所述出水池(7)之间通过第八水管(80)连接，所述第七水管(70)上设置有第五手动球阀(51)、第四电磁阀(42)及第五压力传感器(53)；所述Cs吸附床(6)具有进水端和出水端，所述进水端与第五水管(50)连接，所述出水端与第六水管(60)连接，所述出水端还连接有取样阀(61)。

3.根据权利要求2所述的二次放射性洗消废液的处理系统，其特征在于：该处理系统还包括空气泵(9)，所述空气泵(9)与所述第二水管(20)之间通过进气管连接，所述第二水管(20)与所述进气管具有连接点，所述连接点处于第二手动球阀(21)和第一电磁阀(12)之间，所述进气管上设置有第六手动球阀；Cs吸附床(6)的出水端与所述进水池(1)之间通过第一冲排管(14)连接，所述第一冲排管(14)上设置有第五电磁阀(52)。

4.根据权利要求3所述的二次放射性洗消废液的处理系统，其特征在于：自清洗过滤器(3)的出水端与所述进水池(1)之间通过第二冲排管(24)连接，所述第二冲排管(24)上设置有第六电磁阀(62)。

5.根据权利要求4所述的二次放射性洗消废液的处理系统，其特征在于：所述第一水管(10)上设置有第一pH值探头(15)和第一电导率传感器(16)，出水池(7)的进水端设置有第二pH值探头(25)、第二电导率传感器(26)及流量计(17)。

6.根据权利要求2-5中任一权利要求所述的二次放射性洗消废液的处理系统，其特征在于：所述第八水管(80)上设置有止回阀(18)。

7.根据权利要求6所述的二次放射性洗消废液的处理系统，其特征在于：该处理系统还包括PLC控制器，所述水泵(2)、所述自清洗过滤器(3)、所述微滤设备(4)、所述第一电磁阀(12)、所述第二电磁阀(22)、所述第三电磁阀(32)、所述第四电磁阀(42)、所述第五电磁阀(52)、所述第六电磁阀(62)、所述第一压力传感器(13)、所述第二压力传感器(23)、所述第三压力传感器(33)、所述第四压力传感器(43)、所述第五压力传感器(53)、所述第一pH值探头(15)、所述第二pH值探头(25)、所述第一电导率传感器(16)、所述第二电导率传感器(26)、所述流量计(17)及所述空气泵(9)分别与所述PLC控制器有线或无线连接。

8.根据权利要求7所述的二次放射性洗消废液的处理系统，其特征在于：所述进水池(1)为衰变池。