[发明专利]一种用于处理印染废水的硫化锌铜光催化剂及制备方法

说明书

本发明属于印染废水处理的技术领域，提供了一种用于处理印染废水的硫化锌铜光催化剂及制备方法。该方法以氯化铜、醋酸锌、硫脲为原料，以乙二醇为溶剂，以十二烷基苯磺酸钠为表面活性剂，以对苯二酸为助表面活性剂制备硫化锌铜花状纳米空球，然后与原位生成的黄钨酸复合，进一步煅烧制得三氧化钨掺杂的硫化锌铜光催化剂。与传统方法相比，本发明制备的光催化剂，可抑制光激发下产生的光生电子和空穴对的复合，提高光生载流子的分离效率，进而提高光催化剂的活性及催化效率。

技术领域

本发明属于印染废水处理的技术领域，提供了一种用于处理印染废水的硫化锌铜光催化剂及制备方法。

背景技术

印染废水中，除含有助剂和大量的浆料外，废水中还含有苯胺、硝基苯、邻苯二甲酸类等含有苯环、胺基、偶氮等基团的有毒有机污染物，不但难以生物降解，而且多为致癌物质，危及人的身体健康。这些废水如果直接排放，不仅会影响水生植物的光合作用，降低水中的溶解氧，影响水生动物的生长，而且印染废水中含有的大量的硫酸盐，也会在土壤中转化为硫化物，引起植物根部腐烂，使土壤性质恶化，造成严重的环境危害。因此，治理印染废水势在必行。

目前，印染废水的处理方法主要有物理处理法、化学处理法及生物处理法等，其中物理处理法主要有吸附法、混凝法、膜分离法等，化学处理法主要有氧化法、电化学法、还原法等。由于印染废水具有组成复杂、色度高、生物难降解物质浓度高等特点，传统的处理方法难以达到令人满意的效果，近年来，利用半导体纳米材料多相光催化氧化以消除环境中各种污染物的研究日益增多，特别是光催化氧化法更是受到人们青睐。

光催化氧化的原理就是在表面催化剂存在的条件下，利用一定波长的紫外光波在常温常压下催化、通过一定量的曝气来氧化废水中的有机污染物，或直接氧化有机污染物，或将大分子有机污染物氧化成小分子有机污染物，提高废水的可生化性，较好的去除有机污染物。目前，常用的光催化剂主要以二氧化钛为代表，而研究处价格低廉、性能优良的半导体材料的研究越来越多，其中三元化合物硫化锌铜以其优异的光电特性，成为新型的光催化材料而受到人们关注。

中国发明专利申请号201711424981.2公开了一种光催化降解印染废水的处理工艺，其采用的光催化剂为银纳米团簇-银纳米粒子/TiO₂/石墨烯复合光催化剂。该催化剂首先制得氧化石墨烯，然后在其片层上负载具有光催化活性的TiO₂，再将银纳米团簇修饰到负载有TiO₂的石墨烯片层上，并对其进行光还原，该复合光催化剂针对印染废水虽然具有较高催化降解活性，但其可见光利用率较低，催化活性有待进一步提高。

中国发明专利申请号201410181986.7公开了一种亚铜离子掺杂的硫化锌铜纳米线可见光催化剂的快速合成法和应用，采用压力微波辅助合成法，用水做溶剂，二价锌盐为锌源，铜纳米线为基底，经过硫源硫化，清洁快速合成了具有较高可见光活性的亚铜离子掺杂的硫化锌铜纳米线可见光催化剂。该发明催化剂可广泛应用于光解水制氢、太阳能电池、抗菌、光催化处理污染物等领域。但该发明存在的缺陷是光催化剂的可见光利用率依然较低，将其用于印染废水处理时的光催化活性差，污水处理效果不理想。

综上所述，现有技术中用于印染废水处理的光催化剂，包括硫化锌铜光催化剂，普遍存在光激发下产生的光生电子和空穴对易于复合，可见光利用率低，光催化活性低，废水处理效率低等缺陷，因此开发一种可见光利用率高，光催化活性优异的硫化锌铜光催化剂，有着重要的意义。

发明内容

可见，现有技术的用于印染废水处理的硫化锌铜等光催化剂，普遍存在光激发下产生的光生电子和空穴对易于复合，可见光利用率低，光催化活性低，废水处理效率低等缺陷。针对这种情况，本发明提出一种用于处理印染废水的硫化锌铜光催化剂及制备方法，可有效抑制光生电子与空穴的复合，改善了光催化活性，并且提高了可见光利用率。

为实现上述目的，本发明涉及的具体技术方案如下：

一种用于处理印染废水的硫化锌铜光催化剂的制备方法，所述光催化剂制备的具体步骤如下：