[发明专利]一种基于石墨烯和光栅结合的宽带动态可调RCS缩减结构有效

专利信息
申请号: 201811093598.8 申请日: 2018-09-19
公开(公告)号: CN109239824B 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 罗先刚;宋甲坤;黄成;马晓亮;蒲明博 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;H01Q15/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 石墨 光栅 结合 宽带 动态 可调 rcs 缩减 结构
【权利要求书】:

1.一种基于石墨烯和光栅结合的宽带动态可调RCS缩减结构,其特征在于:由下到上依次由底部金属层、介质层、石墨烯电控层、高折射率光栅层组成,其中石墨烯电控层依次自下到上由高方阻薄膜层,浸润离子液的绝缘介质层和PET基底石墨烯层构成;高折射率光栅层将入射电磁波散射到其它方向以及利用石墨烯电控层、介质层和底部金属层构成Salisbury屏进一步吸收入射电磁波实现RCS缩减;通过对石墨烯电控层施加外加偏压来控制石墨烯方阻实现RCS缩减的动态调控;

所述的介质层的厚度为d,其取值范围为λ0/10dλ0/3,λ0为中心波长;

所述的石墨烯电控层中的PET基底石墨烯层为转移到介质基底上的石墨烯;所述的绝缘介质层为可吸附离子液体的介质隔膜,浸润液体为离子液体,为DEMETFSI;所述的高方阻薄膜层方阻大于PET基底石墨烯层方阻;

所述的高折射率光栅层为周期性高折射率材料方块阵列结构,其周期为P,对应取值范围为P2λ0,λ0为中心波长,其方块边长为W,对应取值范围为P/4≤W≤3P/3,其介电常数为εs,对应取值范围为7≤εs≤15;

通过引入PET基底石墨烯层,浸润离子液的绝缘介质层和高方阻薄膜层构成的石墨烯电控层,与高折射率光栅层构成了多层结构,结合辐射损耗和吸收损耗两种手段来拓展RCS缩减带宽,通过改变石墨烯电控层的外加偏压即可实现宽带范围内实现RCS缩减强度的动态调控,此外该动态可调RCS缩减结构具有极化不敏感,具有调控带宽宽的优势。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院光电技术研究所,未经中国科学院光电技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811093598.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top