[发明专利]一种三元MOF纳米片阵列材料、制备方法及其应用

权利要求书

1.一种三元MOF纳米片阵列材料的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：

S1：清洗泡沫镍；

S2：将镍盐、铁盐、钴盐和有机配体溶解于甲醇中，得混合溶液，然后置于反应釜，加入步骤S1清洗的泡沫镍，密封，水热反应，然后，取出，自然冷却至室温，产物经清洗干燥，得到负载在泡沫镍上的三元MOF纳米片阵列材料；

步骤S2中所述镍盐在混合溶液中浓度≥0.024 mol·L^-1，铁盐在混合溶液的浓度≥0.005 mol·L^-1，甲醇的体积≥35 mL；

步骤S2所述钴盐浓度为0.0005~0.002 mol·L^-1；

步骤S2中所述水热反应是指于180℃水热反应6 h；

步骤S2中所述有机配体在混合溶液中的浓度为0.114-0.115 mol·L^-1；

所述有机配体选自2-甲基咪唑。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤S2中所述镍盐选自六水合硝酸镍，所述铁盐选自九水合硝酸铁，所述钴盐选自六水合硝酸钴。

3.一种权利要求1或2所述方法制备的三元MOF纳米片阵列材料。

4.一种权利要求1或2所述方法制备的三元MOF纳米片阵列材料在电解水析氧反应方面的应用。