[发明专利]一种光学晶体的退火装置及退火方法

权利要求书

1.一种光学晶体的退火装置，包括壳体（1），其特征在于：所述壳体内设有内部装有光学晶体（9）的坩埚（2），所述坩埚径向方向上设有第一加热器（3）和第二加热器（4），所述第一加热器和第二加热器上下对应设置；所述坩埚下方设有第三加热器（5）, 所述晶体与坩埚内壁之间填充有氟化钙晶粒和石墨粉混合粉末,所述壳体内设有支轴（11），所述坩埚设于所述支轴上,所述坩埚与第一加热器之间的距离10~20mm，所述坩埚与第二加热器之间的距离10~20mm，所述坩埚与第三加热器之间的距离10~20mm,所述第一加热器和所述第二加热器的高度150~250mm，所述第三加热器的直径300~400mm。

2.根据权利要求1所述的一种光学晶体的退火装置，其特征在于：所述坩埚的高度为300~450mm。

3.根据权利要求1所述的一种光学晶体的退火装置，其特征在于：所述壳体（1）内壁与所述第一加热器、第二加热器和第三加热器之间设有碳纤维毡保温层。

4.一种使用如权利要求1-3任意一项所述的一种光学晶体的退火装置的退火方法，其特征在于：包括以下步骤，

步骤一、处于真空环境下，同时进行如下升温：

第一加热器以10±5℃/h的速度升至温度低于晶体熔点150~200℃，该温度为T，恒温保持；

第二加热器以均匀速率在相同时间内升温至T+（50~150）℃，恒温保持；

第三加热器以均匀速率在相同时间内升温至T-（100~200）℃，恒温保持；

步骤二、降温：第一加热器、第二加热器、第三加热器均以10±5℃/h降至室温，降至室温后继续冷却24小时，取出晶体。

5.根据权利要求4所述的一种光学晶体的退火方法，其特征在于：步骤一中的恒温保持时间为24小时以上。

6.根据权利要求4所述的一种光学晶体的退火方法，其特征在于：步骤一中的真空环境为真空度高于10^-2Pa。