[发明专利]掩模坯及其制造方法、半色调掩模及其制造方法在审
| 申请号： | 201811099364.4 | 申请日： | 2018-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN109782526A | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 诸沢成浩 | 申请（专利权）人： | 爱发科成膜株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/32 | 分类号： | G03F1/32 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 刁兴利;王珍仙 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩模 半色调掩模 耐化学品 透射率 制造 耐化学品性 变动幅度 半透射 波段 氮率 | ||
1.一种掩模坯，具有成为半色调掩模的层，所述掩模坯具有：
耐化学品层，提高了耐化学品性；和
均匀透射率层，从i线到g线的波段中半透射率的变动幅度被控制在规定范围内，
所述耐化学品层及所述均匀透射率层中的含氮率不同。
2.根据权利要求1所述的掩模坯，
所述耐化学品层位于比所述均匀透射率层更靠外侧。
3.根据权利要求1或2所述的掩模坯，
所述耐化学品层的氮浓度比所述均匀透射率层的氮浓度高。
4.根据权利要求1或2所述的掩模坯，
在所述耐化学品层和所述均匀透射率层中，所述半透射率的变动幅度相对于所述耐化学品层的膜厚具有向下凸出的轮廓。
5.根据权利要求1或2所述的掩模坯，
在所述耐化学品层和所述均匀透射率层中，在405nm的透射率为28～29％。
6.根据权利要求1或2所述的掩模坯，
所述耐化学品层和所述均匀透射率层由硅化物构成。
7.根据权利要求1或2所述的掩模坯，
所述耐化学品层的氮浓度为36atm％以上。
8.根据权利要求1或2所述的掩模坯，
所述均匀透射率层的氮浓度为35atm％以下。
9.根据权利要求1或2所述的掩模坯，
所述耐化学品层的膜厚为20nm以下。
10.一种半色调掩模，其使用权利要求1至9中的任一项所述的掩模坯来制造而成。
11.一种掩模坯的制造方法，
其为权利要求1至9中的任一项所述的掩模坯的制造方法，
在所述耐化学品层和所述均匀透射率层的成膜时，使氮气分压彼此不同。
12.一种半色调掩模的制造方法，
其为权利要求10所述的半色调掩模的制造方法，
在所述耐化学品层和所述均匀透射率层的成膜时，使氮气分压彼此不同。
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