[发明专利]一种OLED显示面板及其制备方法、蒸镀用掩膜板在审
申请号: | 201811100465.9 | 申请日: | 2018-09-20 |
公开(公告)号: | CN109136835A | 公开(公告)日: | 2019-01-04 |
发明(设计)人: | 张涛 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;H01L27/32;H01L51/56;H01L51/00 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 阻挡膜 蒸镀 镀膜区域 开口部 透过率 掩膜板 制备 遮挡 非镀膜区域 控制膜 掩膜 申请 | ||
1.一种蒸镀用掩膜板,其特征在于,包括:
开口部,对应于多个镀膜区域;
遮挡部,对应于多个所述镀膜区域之外的非镀膜区域;
阻挡膜,对应设置于所述开口部位置,且固定于所述遮挡部上;
其中,所述阻挡膜用以控制膜材的透过率,所述阻挡膜的不同区域的所述透过率不同。
2.根据权利要求1所述的蒸镀用掩膜板,其特征在于,所述阻挡膜边缘区域的透过率高于中心区域的透过率。
3.根据权利要求1所述的蒸镀用掩膜板,其特征在于,一所述开口部对应一所述阻挡膜,且所述阻挡膜的面积大于等于所述开口部的面积。
4.根据权利要求1所述的蒸镀用掩膜板,其特征在于,所述阻挡膜贴附于所述遮挡部的第一表面或第二表面,且所述阻挡膜至少包括对应所述开口部的多个阻挡区域,且不同所述阻挡区域的透过率不同;或者,每个所述阻挡区域中的不同位置的透过率不同。
5.根据权利要求1所述的蒸镀用掩膜板,其特征在于,所述遮挡部上设置有用于固定所述阻挡膜的卡扣,所述卡扣用于固定具有不同透过率的所述阻挡膜。
6.一种采用权利要求1~5任一权利要求所述的蒸镀用掩膜板制备OLED显示面板的方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:
步骤S10,提供一待制备有机发光层的阵列基板,所述阵列基板形成有像素开口区域,将所述掩膜板置于所述阵列基板上方位置,且所述开口部对应所述像素开口区域,所述遮挡部遮挡对应相邻两所述像素开口区域之间的部分;
步骤S20,以所述掩膜板为掩膜进行有机发光材料的蒸镀;
步骤S30,蒸镀到对应所述遮挡部的所述有机发光材料由所述遮挡部遮挡,蒸镀到对应所述开口部的所述有机发光材料透过所述阻挡膜蒸镀至对应的所述像素开口区域,形成所述有机发光层;
其中,所述有机发光材料在对应所述开口部的所述阻挡膜上的透过率不同,使得形成的所述有机发光层的厚度均一。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述有机发光材料在所述阻挡膜四周边缘区域的透过率高于中心区域的透过率。
8.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述有机发光材料在所述阻挡膜的所述阻挡区域的边缘部分的透过率高于中心部分的透过率。
9.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,在所述步骤S30之后,所述方法还包括以下步骤:
步骤S40,在所述阵列基板上制备阴极层。
10.一种采用权利要求6所述的方法制备的OLED显示面板,其特征在于,包括:
衬底基板;
薄膜晶体管层,制备于所述衬底基板上;
像素定义层,制备于所述薄膜晶体管层上,且定义出像素区域;
有机发光层,制备于所述像素定义层定义出的所述像素区域;
其中,所述有机发光层的不同位置的膜层厚度均一。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811100465.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类