[发明专利]一种基于MgO衬底的石墨烯量子点掺杂氧化镓薄膜及其制备方法在审
申请号: | 201811101011.3 | 申请日: | 2018-09-20 |
公开(公告)号: | CN109402607A | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 沈荣存 | 申请(专利权)人: | 南京同溧晶体材料研究院有限公司 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;H01S3/16 |
代理公司: | 南京中律知识产权代理事务所(普通合伙) 32341 | 代理人: | 沈振涛 |
地址: | 210000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 量子点 石墨烯 氧化镓 薄膜 掺杂 衬底 制备 固体激光工作物质 自调Q固体激光器 电子材料技术 可调谐激光器 载流子迁移率 超快激光器 空穴迁移率 化学稳定 增益介质 质量分数 | ||
1.一种基于MgO衬底的石墨烯量子点掺杂氧化镓薄膜,包括MgO衬底材料和生长在衬底上的石墨烯量子点掺杂氧化镓外延层。
2.如权利要求1所述的石墨烯量子点掺杂氧化镓薄膜,其特征在于:所述石墨烯量子点掺杂的质量分数为0.005%~0.03%。
3.如权利要求1所述的石墨烯量子点掺杂氧化镓薄膜,其特征在于:所述石墨烯量子点掺杂的质量分数为0.02%。
4.权利要求1-3任一项所述的掺杂氧化镓薄膜的制备方法,包括如下步骤:
步骤1:清洗MgO衬底,并使用氮气吹干;
步骤2:将石墨烯量子点、纯度大于99.999%的氧化镓粉末加入乙醇中,超声分散均匀,蒸除溶剂,成型,烧结,得到石墨烯量子点掺杂陶瓷靶;
步骤3:将装有MgO衬底的石英舟置于化学气相沉积设备反应室内合适的位置,将步骤2所得石墨烯量子点掺杂陶瓷靶置于石英舟与反应室进气口之间,并距离石英舟8-12cm处,关闭反应室门;
步骤4:打开气路,使氧气和惰性气体的混合气体持续通入反应室,设定化学气相沉积设备反应室内加热温度和加热时长,得到石墨烯量子点掺杂氧化镓薄膜。
5.如权利要求4所述的制备方法,其特征在于:步骤1中所述清洗MgO衬底,包括将所述MgO衬底置于丙酮溶液中,超声波清洗5分钟,再置于无水乙醇溶液中,超声波清洗5分钟,再置于160℃的硫酸和磷酸的混合液中浸泡15min,硫酸和磷酸的比例为3:1,最后用去离子水漂洗浸泡后的MgO衬底,并用干燥的氮气吹干。
6.如权利要求4所述的制备方法,其特征在于:步骤1中石墨烯量子点的制备是将石墨烯量子点加入含锆石墨烯量子点中进行氧化锆涂层涂覆得到。
7.如权利要求4所述的制备方法,其特征在于:步骤1中石墨烯量子点的制备包括以下步骤:
步骤a:将丙醇锆溶解于其5~10倍质量的乙醇中,搅拌下加入体积比为3:2的乙酰丙酮/水混合溶剂,室温下静置老化2~3天,制得涂层凝胶,所述乙醇和乙酰丙酮/水混合溶剂的体积比为25~40:1;
步骤b:将石墨烯量子点加入步骤a所得涂层凝胶中,搅拌均匀后,60℃干燥8~24h;
步骤c:重复步骤b 3~5次,500℃下烘烤30min,制得氧化锆涂层涂覆的石墨烯量子点。
8.如权利要求4所述的制备方法,其特征在于:骤1中石墨烯量子点掺杂陶瓷靶的制备方法为将蒸除溶剂后的混合物在60~70MPa的压强下压制50~60分钟,空气中1300~1400℃下烧结700~900分钟得到。
9.如权利要求4所述的制备方法,其特征在于:步骤4中所述惰性气体和氧气的纯度高于99%。
10.如权利要求4所述的制备方法,其特征在于:步骤4中所述惰性气体选自氮气、氦气或氩气。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的