[发明专利]掩模装置及掩模控制方法

权利要求书

1.一种掩模装置，其特征在于，所述掩模装置包括：掩模板、多个加压结构和控制器，

所述掩模板包括与所述多个加压结构一一对应的多个掩模单元，所述掩模单元在受到第一压力时处于遮光状态，且在受到第二压力时处于透光状态，所述控制器与每个所述加压结构均连接；

每个所述加压结构包括：电场施加元件以及设置在其对应的掩模单元两侧的两个压电元件，所述控制器与所述电场施加元件连接，所述电场施加元件包括：相对设置的两个透光电极，所述掩模单元两侧的两个所述压电元件和所述加压结构对应的掩模单元均位于所述两个透光电极之间，所述控制器与每个所述透光电极均连接；

所述控制器用于：控制第一加压结构中的电场施加元件向压电元件施加电场，以使所述第一加压结构中的压电元件在所述电场的作用下变形，并向与所述第一加压结构对应的所述掩模单元施加所述第一压力，以使所述第一加压结构对应的掩模单元处于所述遮光状态；控制第二加压结构中的电场施加元件停止向压电元件施加所述电场，以使所述第二加压结构中的压电元件在所述电场消失后恢复形状，并向与所述第二加压结构对应的所述掩模单元施加所述第二压力，以使所述第二加压结构对应的掩模单元处于所述透光状态；

所述掩模板还包括：遮光隔离结构，所述遮光隔离结构用于隔离任意两个相邻的掩模单元，所述遮光隔离结构还用于隔离任意两个相邻的加压结构。

2.根据权利要求1所述的掩模装置，其特征在于，所述控制器用于：向所述两个透光电极施加不同的电压，以向所述压电元件施加所述电场；以及停止向所述两个透光电极施加电压，以停止向所述压电元件施加所述电场。

3.根据权利要求1或2所述的掩模装置，其特征在于，所述掩模单元包括：压敏变色结构。

4.根据权利要求1所述的掩模装置，其特征在于，所述压电元件为陶瓷压电元件。

5.一种掩模控制方法，其特征在于，用于权利要求1至4任一所述的掩模装置中的控制器，所述掩模装置还包括：掩模板和多个加压结构，所述掩模板包括与所述多个加压结构一一对应的多个掩模单元，所述掩模单元在受到第一压力时处于遮光状态，且在受到第二压力时处于透光状态，所述控制器与每个所述加压结构均连接，每个所述加压结构包括：电场施加元件以及设置在其对应的掩模单元两侧的两个所述压电元件，所述控制器与所述电场施加元件连接，所述电场施加元件包括：相对设置的两个透光电极，所述掩模单元两侧的两个所述压电元件和所述加压结构对应的掩模单元均位于所述两个透光电极之间，所述控制器与每个所述透光电极均连接；遮光隔离结构，所述遮光隔离结构用于隔离任意两个相邻的掩模单元，所述遮光隔离结构还用于隔离任意两个相邻的加压结构，所述方法包括：

控制所述第一加压结构中的电场施加元件向压电元件施加电场，以使所述第一加压结构中的压电元件在所述电场的作用下变形，并向与所述第一加压结构对应的所述掩模单元施加所述第一压力，以使所述第一加压结构对应的掩模单元处于所述遮光状态；

控制所述第二加压结构中的电场施加元件停止向压电元件施加所述电场，以使所述第二加压结构中的压电元件在所述电场消失后恢复形状，并向与所述第二加压结构对应的所述掩模单元施加所述第二压力，以使所述第二加压结构对应的掩模单元处于所述透光状态。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，控制所述第一加压结构中的电场施加元件向压电元件施加电场，包括：向所述第一加压结构中的两个透光电极施加不同的电压，以向所述第一加压结构中的压电元件施加所述电场；

控制所述第二加压结构中的电场施加元件停止向压电元件施加所述电场，包括：停止向所述第二加压结构中的两个透光电极施加电压，以停止向所述第二加压结构中的压电元件施加电场。