[发明专利]粘合膜和使用该粘合膜的光学设备

权利要求书

1.一种光学设备的制造工艺，所述制造工艺使用粘合膜，所述光学设备包括下设备和上设备；所述粘合膜包括上保护层、下保护层以及粘合层，所述粘合层位于所述上保护层与所述下保护层之间；所述粘合层包含丙烯酸树脂、光引发剂和氟化单体，所述制造工艺包括以下步骤：

从所述粘合层剥离所述下保护层以暴露所述粘合层的下表面；

将所述下设备附接到所述粘合层的所述下表面；

对所述上保护层和所述粘合层执行UV照射；

从所述粘合层剥离所述上保护层以暴露所述粘合层的上表面；以及

将所述上设备附接到所述粘合层的所述上表面。

2.根据权利要求1所述的制造工艺，其中，在剥离所述下保护层的步骤期间，所述上保护层和所述粘合层之间的粘合强度大于所述下保护层和所述粘合层之间的粘合强度。

3.根据权利要求1所述的制造工艺，其中，在执行所述UV照射后，所述粘合层和所述上保护层之间的粘合强度降低。

4.根据权利要求1所述的制造工艺，其中，在执行所述UV照射后，所述氟化单体朝向所述粘合层的所述上表面漂浮，并且所述氟化单体不存在于所述粘合层的所述下表面中。

5.根据权利要求1所述的制造工艺，其中，基于100重量份的所述丙烯酸树脂，所述氟化单体的含量为0.1重量份或更多。

6.根据权利要求1所述的制造工艺，其中，所述UV照射在1kW状态下执行10秒或更短时间。

7.一种光学设备，该光学设备包括：

下设备；

上设备；以及

粘合层，所述粘合层位于所述上设备和所述下设备之间，

其中，所述粘合层包含丙烯酸树脂、光引发剂和氟化单体，

其中，基于100重量份的所述丙烯酸树脂，所述氟化单体的含量为0.1重量份或更多并且为1.0重量份或更少，

其中，所述氟化单体的密度在所述粘合层的厚度方向上不同，并且

其中，所述下设备在所述上设备之前附接到所述粘合层，并且

在所述上设备附接到所述粘合层之前，对所述粘合层和所述粘合层上的上保护层执行UV照射，以使得所述粘合层和所述上保护层之间的粘合强度降低。

8.根据权利要求7所述的光学设备，其中，基于100重量份的所述丙烯酸树脂，所述光引发剂的含量为3重量份至5重量份。

9.根据权利要求7所述的光学设备，其中，所述上设备和所述下设备中的一个包括基板、发光元件和保护层中的至少一个。

10.根据权利要求7所述的光学设备，其中，所述上设备和所述下设备中的一个包括偏振器、覆盖窗和触摸面板中的至少一个。

11.一种使用粘合膜的方法，所述粘合膜包括上保护层、下保护层以及粘合层，所述粘合层位于所述上保护层与所述下保护层之间，其中，所述粘合层包含丙烯酸树脂、光引发剂和氟化单体，并且其中，基于100重量份的所述丙烯酸树脂，所述氟化单体的含量为0.1重量份或更多，所述方法包括以下步骤：

从所述粘合层剥离所述下保护层以暴露所述粘合层的下表面；

将下设备附接到所述粘合层的所述下表面；

对所述上保护层和所述粘合层执行UV照射；

从所述粘合层剥离所述上保护层以暴露所述粘合层的上表面；以及

将上设备附接到所述粘合层的所述上表面。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，基于100重量份的所述丙烯酸树脂，所述氟化单体的含量为1.0重量份或更少。

13.根据权利要求11所述的方法，其中，基于100重量份的所述丙烯酸树脂，所述光引发剂的含量为3重量份至5重量份。