[发明专利]位置检测装置及蒸镀装置有效
申请号: | 201811108141.X | 申请日: | 2018-09-21 |
公开(公告)号: | CN109609901B | 公开(公告)日: | 2020-09-22 |
发明(设计)人: | 吉田雄一;坂内雄也;柳堀文嗣;小川庆 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54 |
代理公司: | 上海和跃知识产权代理事务所(普通合伙) 31239 | 代理人: | 余文娟 |
地址: | 日本国神奈川*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 位置 检测 装置 | ||
1.一种位置检测装置,具备:
拍摄部,其拍摄第1像和第2像,该第1像基于由基板的平坦部反射的光形成,该第2像基于由与所述平坦部连接的斜面部反射的光形成;以及
图像处理部,其基于所述第1像和所述第2像的对比度提取所述平坦部和所述斜面部的边界作为所述基板的外形的一部分,根据该提取的外形的一部分来确定所述基板的位置,
所述拍摄部是第1拍摄部,
所述基板包括表面和背面,该表面包含基板标记,
进一步具备第2拍摄部,该第2拍摄部与所述表面对置,并拍摄所述基板标记,
所述第1拍摄部与所述背面对置,并拍摄所述第1像及所述第2像,
所述图像处理部使用包含由所述第1拍摄部拍摄到的所述第1像及所述第2像的所述背面的图像,以将所述基板的第1基板中心作为中心的虚拟圆通过所述边界的方式算出所述基板的第1基板中心的位置,
所述图像处理部使用包含由所述第2拍摄部拍摄到的基板标记的所述表面的图像,以将所述基板的图形中心作为中心的虚拟圆通过所述基板标记的方式算出所述基板的图形中心的位置,算出所述图形中心与所述第1基板中心之间的偏差量。
2.一种蒸镀装置,具备:
位置检测装置,其检测基板的位置;
蒸镀源,其与所述基板的表面对置;以及
蒸镀掩模,其位于所述表面与所述蒸镀源之间,
所述位置检测装置具备:
拍摄部,其拍摄第1像和第2像,该第1像基于由所述基板的背面中的平坦部反射的光形成,该第2像基于由与所述平坦部连接的斜面部反射的光形成;以及
图像处理部,其基于所述第1像和所述第2像的对比度提取所述平坦部和所述斜面部的边界作为所述基板的外形的一部分,根据该提取的外形的一部分来确定所述基板的位置,
所述拍摄部是第1拍摄部,
所述基板包括表面和背面,该表面包含基板标记,
进一步具备第2拍摄部,该第2拍摄部与所述表面对置,并拍摄所述基板标记,
所述第1拍摄部与所述背面对置,并拍摄所述第1像及所述第2像,
所述图像处理部使用包含由所述第1拍摄部拍摄到的所述第1像及所述第2像的所述背面的图像,以将所述基板的第1基板中心作为中心的虚拟圆通过所述边界的方式算出所述基板的第1基板中心的位置,
所述图像处理部使用包含由所述第2拍摄部拍摄到的基板标记的所述表面的图像,以将所述基板的图形中心作为中心的虚拟圆通过所述基板标记的方式算出所述基板的图形中心的位置,算出所述图形中心与所述第1基板中心之间的偏差量。
3.根据权利要求2所述的蒸镀装置,其中,
所述蒸镀装置具备:
搬送部,其具备所述位置检测装置作为第1位置检测装置;以及
蒸镀腔,其搭载有第2位置检测装置,
所述背面位置是第1背面位置,
所述第2位置检测装置具备:
第3拍摄部,其拍摄第3像和第4像,该第3像基于由所述背面的平坦部反射的光形成,该第4像基于由与所述背面的平坦部连接的斜面部反射的光形成;以及
第2图像处理部,其基于所述第3像和所述第4像的对比度提取所述平坦部和所述斜面部的边界作为所述基板的外形的一部分,根据该提取的外形的一部分来确定作为所述基板的位置的第2背面位置,且根据所述第2背面位置和所述偏差量来推定所述蒸镀腔中的所述表面位置,
所述蒸镀掩模在与所述表面对置的一侧的面具备掩模标记,
所述第3拍摄部从与所述背面对置的方向拍摄所述掩模标记,
所述第2图像处理部由所述第3拍摄部拍摄到的所述掩模标记的位置来确定所述蒸镀掩模的位置,将由所述第2图像处理部推定的所述表面位置相对于该蒸镀掩模的位置的相对位置算出。
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