[发明专利]一种防止行位因重力下降的二次变轨结构在审

专利信息
申请号: 201811109214.7 申请日: 2018-09-21
公开(公告)号: CN109278256A 公开(公告)日: 2019-01-29
发明(设计)人: 景伟德;蔡春鸿;郭锐 申请(专利权)人: 慈溪市盛艺模具有限公司
主分类号: B29C45/33 分类号: B29C45/33;B29C45/44
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 315511 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 镶件 行位 行位镶件 变轨结构 导向块 油缸座 挡块 上行 活塞杆 下端 油缸 下行 隧道 螺钉固定 使用寿命 侧抽芯 有效地 导轨 模仁 通孔 延伸 运输
【权利要求书】:

1.一种防止行位因重力下降的二次变轨结构,其特征在于:包括行位机构、油缸、导向块(14)与挡块(9),所述行位机构包括下行位镶件(6)、上行位镶件(8)与隧道行位镶件(7),所述下行位镶件(6)的中部设有第一放置腔(62),所述第一放置腔(62)内设有通孔(65),所述第一放置腔(62)的尾部设有第一凹槽(61),所述下行位镶件(6)的两侧壁设有放置槽(64),所述下行位镶件(6)的上端面上设有第二凹槽(63),所述下行位镶件(6)的下端设有滑轨(12),所述上行位镶件(8)的下端设有第二放置腔(81),所述上行位镶件(8)的下端面上设有与所述第二凹槽(63)相对应的第一凸起(82),所述上行位镶件(8)通过所述第一凸起(82)安装在所述下行位镶件(6)上并通过第一螺钉固定,所述第一放置腔(62)与所述第二放置腔(81)内用于放置所述隧道行位镶件(7),所述隧道行位镶件(7)的下端面上设有第一耐磨块(71);所述油缸包括油缸座(3),所述油缸座(3)安装在所述第一凹槽(61)上,所述油缸座(3)与所述隧道行位镶件(7)之间设有第一限位块,所述第一限位块安装在所述下行位镶件(6)上,所述油缸座(3)的下端设有第一连接块(13),所述第一连接块(13)上设有活塞杆(11),所述活塞杆(11)向左侧延伸并连接有第二连接块(10),所述油缸座(3)的外侧设有加长座(1),所述加长座(1)与所述下行位镶件(6)之间设有连接块(2),所述连接块(2)设置在所述放置槽(64)内,所述加长座(1)上设有第二耐磨块(5),所述第二耐磨块(5)的外侧设有第二限位块(4);所述挡块(9)设置在所述通孔(65)内,所述挡块(9)位于所述第一耐磨块(71)的下端,所述挡块(9)向下延伸贯穿所述通孔(65)后并连接所述导向块(14),所述导向块(14)上设有导轨,所述导向块(14)位于所述滑轨(12)的内侧。

2.如权利要求1所述的防止行位因重力下降的二次变轨结构,其特征在于:所述第一放置腔(62)的下端面与所述第二放置腔(81)的上端面均为斜面,且所述斜面的角度相同。

3.如权利要求2所述的防止行位因重力下降的二次变轨结构,其特征在于:所述斜面的角度为30°。

4.如权利要求1所述的防止行位因重力下降的二次变轨结构,其特征在于:所述第一连接块(13)与所述第二连接块(10)平行设置,所述第一连接块(13)与所述第二连接块(10)的上端面与所述下行位镶件(6)的下端面之间设有间距,所述间距大于等于1cm且小于等于2cm。

5.如权利要求1所述的防止行位因重力下降的二次变轨结构,其特征在于:所述滑轨(12)共有两条且平行设置。

6.如权利要求1所述的防止行位因重力下降的二次变轨结构,其特征在于:所述放置槽(64)共有两条且对称设置,两所述放置槽(64)内分别设有所述连接块(2),所述连接块(2)与所述加长座(1)、所述下行位镶件(6)之间通过第二螺钉固定,所述第二耐磨块(5)与所述第二限位块(4)均有两个,两所述第二耐磨块(5)与两所述第二限位块(4)设置两所述连接块(2)的内侧。

7.如权利要求1所述的防止行位因重力下降的二次变轨结构,其特征在于:所述加长座(1)朝向所述油缸座(3)的侧壁上设有第二凸起(101),所述第二凸起(101)共有两个且对称设置。

8.如权利要求1所述的防止行位因重力下降的二次变轨结构,其特征在于:所述挡块(9)的下端设有与所述导轨相对应的滑槽(91),所述导轨包括第一导轨(141)与第二导轨(142),所述第一导轨(141)与所述第二导轨(142)相连接。

9.如权利要求8所述的防止行位因重力下降的二次变轨结构,其特征在于:所述第二导轨(142)的高度大于所述第一导轨(141)的高度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于慈溪市盛艺模具有限公司,未经慈溪市盛艺模具有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811109214.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top