[发明专利]一种磷酸基蚀刻液及其配制方法

权利要求书

1.一种磷酸基蚀刻液，其特征在于，蚀刻液为电子级产品，该磷酸基蚀刻液主要成分包括占蚀刻液总重量50-90%的磷酸、0.005-1%的含硅化合物、0.005-1%的含氟化合物、0.005-1%的氟稳定剂、0.005-5%的表面活性剂、余量为水。

2.根据权利要求1所述的磷酸基蚀刻液，其特征在于：所述磷酸为电子级磷酸，金属离子含量≤20ppb。

3.根据权利要求1所述的磷酸基蚀刻液，其特征在于：所述含硅化合物为硅氧烷、硅醇、硅酸酯、二氧化硅、氮化硅、原硅酸、硅酸和氟硅酸中的一种或几种的混合物。

4.根据权利要求1所述的磷酸基蚀刻液，其特征在于：所述含氟化合物为氢氟酸、氟化铵、氟化氢铵、全氟辛酸、四丁基氟化铵和氟硅酸中的一种或几种的混合物。

5.根据权利要求1所述的磷酸基蚀刻液，其特征在于：所述氟稳定剂为四氢呋喃、吡咯、吡啶、氟化铵、三乙胺、四丁基氢氧化铵和硝酸中的一种或几种的混合物。

6.根据权利要求1所述的磷酸基蚀刻液，其特征在于：所述表面活性剂为硬脂酸、三乙醇胺、亚乙基亚胺、十六烷基溴化吡啶、聚乙二醇、聚丙烯酰胺、正辛胺、溴化二甲基苄基十二烷基铵、卵磷脂、脂肪酸山梨坦和聚山梨酯中的一种或几种的混合物。

7.根据权利要求1所述的磷酸基蚀刻液，其特征在于：所述的水为25℃下电阻率15-18MΩ*cm的超纯水。

8.根据权利要求1-7任一项所述的磷酸基蚀刻液的制备方法，其特征在于：所述蚀刻液的配制方法包括以下步骤：

（1）将含氟化合物、氟稳定剂和超纯水混合均匀，备用；

（2）将含硅化合物、超纯水和表面活性剂加入到电子级磷酸中，混合均匀、超声分散；

（3）将步骤（1）中的混合溶液加入到步骤（2）的混合溶液中，搅拌、超声之后静置24h以上。