[发明专利]彩膜基板及其制作方法

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括显示区和非显示区：

所述非显示区设置有主间隔物和辅间隔物，所述主间隔物包括依次设置在下基板上的黑色矩阵层、基色色阻层和平坦层，所述辅间隔物包括依次设置在所述下基板上的所述基色色阻层和所述平坦层；

所述主间隔物层累厚度大于所述辅间隔物的层累厚度，所述黑色矩阵层的厚度改变用以调节所述主间隔物和辅间隔物的层累厚度差。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述非显示区的位置对应于，与所述彩膜基板相对盒的阵列基板的数据线以及开关线的区域，且包围所述显示区；所述黑色矩阵层覆盖所述非显示区，且所述黑色矩阵层对应于所述主间隔物的区域作为所述主间隔物的一部分，以使所述主间隔物和辅间隔物形成厚度差。

3.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑色矩阵层设有用于设置所述辅间隔物的开口。

4.如权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑色矩阵层的开口面积大于或等于所述辅间隔物投影到所述下基板平面上的面积。

5.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括至少一个像素单元，每个所述像素单元包括所述显示区和所述非显示区，每个所述像素单元内至少有一个所述主间隔物和至少二个辅间隔物。

6.如权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑色矩阵层的开口与所述显示区间隔有所述黑色矩阵层。

7.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

S10，提供一玻璃基板，在表面制作黑色矩阵层，所述黑色矩阵层设置在非显示区，所述非显示区的位置对应将与所述彩膜基板相贴合的阵列基板的数据线以及开关线对应的区域，所述黑色矩阵层设置在主间隔物处，所述黑色矩阵层设置有开口，用以制作辅间隔物；

S20，在显示区、所述主间隔物处和所述黑色矩阵层的开口处制作基色色阻层；

S30，在所述玻璃基板上制作平坦层。

8.如权利要求7所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述显示区包括第一基色区、第二基色区和第三基色区。

9.如权利要求8所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述基色色阻层分为第一基色色阻层、第二基色色阻层和第三基色色阻层。

10.如权利要求9所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤S20包括：

S201，在所述第一基色区、所述主间隔物处和所述黑色矩阵层的开口处制作所述第一基色色阻层；

S202，在所述第二基色区、所述主间隔物处和所述黑色矩阵层的开口处制作所述第二基色色阻层；

S203，在所述第三基色区、所述主间隔物处和所述黑色矩阵层的开口处制作所述第三基色色阻层。