[发明专利]一种氧化钼锶光催化材料的制备方法

说明书

一种氧化钼锶光催化材料的制备方法，涉及光催化材料技术领域。首先利用Sr(NO₃)₂、CTAB和Na₂MoO₄·2H₂O经过水热反应制备SrMoO₄，然后利用还原性气体对其还原得到SrMoO₄和SrMoO₃混合物，即氧化钼锶光催化材料。本发明制备获得氧化钼锶材料在可见光和全光条件下均具备光催化性能，且SrMoO₃在一定程度上会促进材料光催化性能的提高。本发明整体制备过程工艺简单，低能耗、低成本、操作安全，所用原料试剂廉价无毒、对环境友好，易于大规模工程化制备和应用。

技术领域

本发明涉及光催化材料技术领域，具体是涉及一种氧化钼锶光催化材料的制备方法。

背景技术

现有技术中，SrMoO₄的合成的方法和原理是依据水热法，水热法的原理：在高温高压环境中，根据溶解结晶机理析出目标产物的一种材料合成方法。首先在高温高压环境中，反应物在水热溶剂中溶解，以离子或分子形式进入溶液—高温高压的强烈对流作用—离子分子之间相互作用形成目标产物—过饱和溶液—结晶析出产物。传统水热法的优点为：简便低价适用于大规模生产，且能制备出不同形貌的纳米材料。但是，该类水热法对配料要求严格，重复性不好，可控性低。

发明内容

本发明的目的提供一种氧化钼锶光催化材料的制备方法，首先利用水热法合成了SrMoO₄，然后利用H₂、NH₃的强还原性，并通过在不同条件下还原SrMoO₄得到SrMoO₄和SrMoO₃的混合物，继而实现氧化钼锶材料的光催化性能的提升。

为了实现上述目的，本发明所采用的技术方案为：一种氧化钼锶光催化材料的制备方法，首先利用Sr(NO₃)₂、CTAB和Na₂MoO₄·2H₂O经过水热反应制备SrMoO₄，然后利用还原性气体对其还原得到SrMoO₄和SrMoO₃混合物，即氧化钼锶光催化材料。

作为本发明的优选技术方案，制备方法中，水热反应制备SrMoO₄的步骤为：

(1)称取2.5774g的Sr(NO₃)₂溶解于50mL去离子水中，磁力搅拌20min，得到溶液A；同时称取0.4725g的CTAB溶解于100mL去离子水中，磁力搅拌20min，得到溶液B；

(2)将溶液B倒入溶液A中，磁力搅拌20min，得到溶液C；同时称取2.9616g的Na₂MoO₄·2H₂O溶解于100mL去离子水中，磁力搅拌20min得到溶液D；

(3)将溶液D倒入溶液C中，磁力搅拌20min，用去离子水定容到300mL，得到白色絮状溶液，然后将该白色絮状溶液转移到水热反应釜中，于120℃下反应4h；

(4)取釜，并用去离子水和无水乙醇洗涤三遍，在80℃下干燥得到样品。

作为本发明的优选技术方案，制备方法中，利用还原性气体对水热反应所制备SrMoO₄还原得到氧化钼锶光催化材料的步骤为：

称取0.5g的SrMoO₄样品，在管式炉中通以氢气或氨气，并在500～700℃下还原3h，得到氧化钼锶光催化材料。

与现有技术相比，本发明的有益效果表现在：