[发明专利]水流自搅拌多级电耦合阻垢系统

权利要求书

1.水流自搅拌多级电耦合阻垢系统，其特征在于：包括循环水流水槽(1)和高频电磁波发射组件(2)；

循环水流水槽(1)内底部并排间隔布置有N组高频电磁波发射组件(2)，N≥2，N为整数；

相邻两个高频电磁波发射组件(2)之间形成水搅拌空间(20)，高频电磁波发射组件(2)能释放高频电磁波并对水搅拌空间(20)内的流水进行磁化。

2.根据权利要求1所述水流自搅拌多级电耦合阻垢系统，其特征在于：每组所述高频电磁波发射组件(2)包括电磁发射板(21)、支撑框架(22)和高频电磁波发射器组(23)；

电磁发射板(21)由支撑框架(22)固定，支撑框架(22)设置在循环水流水槽(1)内底部；

电磁发射板(21)具有多个平面(211)和多组波纹曲面，平面(211)和波纹曲面交替布置，相邻两个电磁发射板(21)之间形成水搅拌空间(20)，每个所述平面(211)上安装有一组电磁波发射器组(23)。

3.根据权利要求2所述水流自搅拌多级电耦合阻垢系统，其特征在于：所述高频电磁波发射器组(23)的每个高频电磁波发射器包含多腔同轴连续频率为2.4亿赫兹的磁控管和防水外壳，防水外壳盖装在磁控管周围。

4.根据权利要求2或3所述水流自搅拌多级电耦合阻垢系统，其特征在于：每组所述波纹曲面包含相交的两个斜面(212)，两个斜面(212)分别与一个平面(211)斜交。

5.根据权利要求4所述水流自搅拌多级电耦合阻垢系统，其特征在于：每组波纹曲面的两个斜面(212)的夹角(β)为40°-50°。

6.根据权利要求2、3或5所述水流自搅拌多级电耦合阻垢系统，其特征在于：所述支撑框架(22)包括固定架(221)和固定板(222)；电磁发射板(21)的两侧各安装有一个固定架(221)，电磁发射板(21)的上下侧各安装有一个固定板(222)，固定架(221)和固定板(222)连接。

7.根据权利要求6所述水流自搅拌多级电耦合阻垢系统，其特征在于：所述固定板(222)上设置有固定槽(2221)，电磁发射板(21)插装在固定槽(2221)上，固定板(222)的两端还做有榫台(2222)，电磁发射板(21)的两侧设置有卯合固定块(33)，卯合固定块(33)插装在榫台(2222)上，固定架(221)为带有卯合槽(2211)的固定架，卯合固定块(33)插装在卯合槽(2211)内。

8.根据权利要求7所述水流自搅拌多级电耦合阻垢系统，其特征在于：所述循环水流水槽(1)为开口向上布置的[形槽，N组高频电磁发射组件(2)固接在循环水流水槽(1)内底部。

9.根据权利要求7所述水流自搅拌多级电耦合阻垢系统，其特征在于：所述水流自搅拌多级电耦合阻垢系统还包括四周敞开带有上下板面的方形箱体(4)，方形箱体(4)设置在循环水流水槽(1)内槽底，方形箱体(4)内上下板面分别做有滑槽(41)和凸台(42)，上下板面的滑槽(41)和凸台(42)一一对应布置，同一面上布置的滑槽(41)和凸台(42)相间布置，每个滑槽(41)内布置有一组可滑动的高频电磁发射组件(2)，上下相对应的两个凸台(42)与相邻两个电磁发射板(21)围成一个水搅拌空间(20)。

10.根据权利要求8或9所述水流自搅拌多级电耦合阻垢系统，其特征在于：相邻两组高频电磁波发射组件(2)的间距为28-32厘米。