[发明专利]隔热屏蔽玻璃面板

说明书

隔热屏蔽玻璃面板。隔热/隔热玻璃面板通过在平板玻璃片上形成功能膜来制造，该膜具有高的太阳辐射反射率、小的太阳辐射吸收率，并且具有0.20或更低的发射率，在平板玻璃的侧面上叠加另一片平板玻璃。功能膜，并在两片平板玻璃之间设置间隙层的条件下，粘合地密封两片平板玻璃。因此，获得了具有足够隔热性能和足够隔热性能的玻璃面板，并且即使在受到太阳辐射时也不会产生翘曲。

技术领域

本发明涉及玻璃制造领域，具体是一种隔热屏蔽玻璃面板。

背景技术

根据“高性能玻璃推广会议”提出的双层玻璃性能指标标准，要求太阳辐射热增益比为0.51(此值表示51个单元的太阳辐射热达到室内空间基于100单位的太阳辐射热量)或以下。此外，根据国际贸易和工业部和建设部2000年3月发布的下一代节能标准，要求在III、IV和V b区任何一处设置太阳辐射热增益比。e 0.49(该值意味着49个单元的太阳辐射热基于100个单元的太阳辐射热到达室内空间)或更低，该比例更优选。目前已经开发了双层玻璃板，它不仅具有隔热性能，而且具有隔热性能。例如，日本专利号2882728公开了一种双层玻璃面板，其中在室外侧设置一片彩色热射线吸收玻璃，在室内侧设置一片透明型玻璃，在室内形成一层低发射率膜。在房间外放置彩色热吸收玻璃片。上述双层玻璃面板制造了太厚的窗玻璃，因为为了获得隔热性能，需要获得两片玻璃之间的空气层(或气体层，如氩气层)的厚度为6mm或6mm以上。例如，当玻璃板的厚度值各为3mm，空气层的厚度为6mm时，窗玻璃的厚度甚至达到12mm，因此几乎不能在普通住宅中使用。因此，已经开发出一种真空玻璃面板，其具有厚度为0.2mm的非常薄的真空层，该真空层的厚度介于两片平板玻璃之间，其结构与上述双层玻璃面板中的相同。这种类型的真空玻璃板提供了足够薄的窗玻璃，而且在炎热的夏日白天抑制了太阳辐射热进入房间内部，并且不失去由制冷机提供的夜间对外的冷却，因此，由于热吸收玻璃和低发射率薄膜的影响，提高了冷却效率。此外，这种类型的真空玻璃面板还提高了冬季的加热效率，因此被广泛用作节能型窗玻璃。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的上述不足而提供一种隔热屏蔽玻璃面板，隔热性能和隔热性能足够，甚至在接收到太阳辐射时也不会产生翘曲。

本发明的技术方案是：通过在一对平板玻璃之间形成具有预定间隔的间隙层，沿着所述两片平板玻璃的外周形成密封的外周部，从而将室内空间和室外空间隔开。并将所述间隙层密封成减压状态，其特征在于在与所述间隙层接触的所述平板玻璃的室外侧板的表面上形成具有0.20或更低的发射率的功能膜；在其上形成所述功能膜的平板玻璃片为45％以下，在其上形成所述功能膜的平板玻璃片的太阳辐射吸收率为25％以下，并且以下关系成立：太阳辐射吸收率(1.02)×太阳辐射反射率+48.5。

通过在一对平板玻璃之间形成具有预定间隔的间隙层，沿着所述两片平板玻璃的外周形成密封的外周部，从而将室内空间和室外空间隔开。并将所述间隙层密封成减压状态，其特征在于在与所述间隙层接触的所述平板玻璃的室外侧板的表面上形成具有0.20或更低的发射率的功能膜；在其上形成所述功能膜的平板玻璃片为45％以下，在其上形成所述功能膜的平板玻璃片的太阳辐射吸收率为25％以下，并且以下关系成立：太阳辐射吸收率(1.11)×太阳辐射反射率+52.5。

所述功能膜是通过按顺序形成第一介电层、金属层和第二介电层而产生的层压膜；所述第一介电层的厚度为10～90nm，金属层的厚度为10～18nm，第二介电层的厚度为10～60nm。

所述介电层的主要成分包括一种金属氧化物或多于一种类型的金属，所述金属由Zn、Sn、Ti、In和Bi组成；以及至少一种包含氮化物层或氧氮化物层，包含从Si、Al和Ti组成的组中选择的一种或多种类型的金属。

本发明的有益效果在于：隔热性能和隔热性能足够，甚至在接收到太阳辐射时也不会产生翘曲。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

具体实施方式

图1中，本发明在侧平板玻璃2的间隙层4侧形成有表征本发明的功能膜5层。在制造这种玻璃面板时，首先通过溅射等在浮法玻璃片等的一侧表面形成功能膜5来制备室外侧板状玻璃片2，并在该板状玻璃片2a之间插入间隔物6。平板玻璃的室内侧板3。间隔物6由抗压强度为4.9×108Pa或更高的材料制成，例如不锈钢，优选为具有0.3mm至1.0mm的直径和0.15mm至1.0mm的高度的实心圆筒；间隙层4通过在两片平板玻璃的周边沿两片平板玻璃的周边用低熔点玻璃夹住间隔件6而粘合地密封而形成在两片平板玻璃之间，随后通过吸入其中的空气来减小间隙层4中的压力，并且间隙铺设。ER 4被紧密地密封，以便处于显示具有1.33Pa或更小的压力的环境的状态。功能膜5是具有介电层和金属层构成主层的结构的层压膜，例如由第一介电层/金属层/第二介电层等构成的层压膜。在这些层中，推荐使用银作为金属层中的金属；或者，也可以优选使用掺杂有钯、金、铟、锌、锡、铝、铜等的银。另外，金属层的厚度优选为10至18纳米。作为用于电介质层的材料的主要成分，可以使用从锌、锡、钛、铟和铋的氧化物中选择的一种或多种氧化物；另外，对于至少一个电介质层，可以使用从氮化物中选择的一种或多种氧化物。可以使用含有Si、Al和Ti的金属的层和氧氮化物层。另外，第一介电层的厚度优选为10至90nm，而第二介电层的总厚度和优选为10至60nm。此外，当通过反应溅射形成电介质层时，牺牲层可以插入到远离玻璃板的界面，介电层和金属层之间的界面，牺牲层由金属或Me构成。Ta氧化物，它们自身被氧化以防止形成的金属层的劣化(氧化)。作为构成牺牲层的材料的具体例子，可以列举钛、锌、硅、铝、锌/锡合金、铌等金属，以及这些金属的氧化物。另外，牺牲层的厚度适当地为1至5纳米。因此，例如，涉及以下的构成：玻璃/ZnO/Ag/Ti/ZnO/SiNx；玻璃/ZnO/Ag/Ti/SiNx/ZnO/SiNx；玻璃/ZnO/Ag/Ti/SiNx等。另外，可以形成SiO2层作为最上层，即离平板玻璃片表面最远的层。通过形成作为最上层的SiO2层，可以抑制在粘合剂密封过程中由功能膜5与诸如低熔点玻璃和金属焊料之类的粘合剂密封材料反应而导致的泡沫形成；可以容易地将密封材料插入到平板玻璃2和3的板之间的间隙层4中。另外，可以形成SiO2层作为最底层，即，最接近平板玻璃片表面的层。通过形成SiO2层作为最底层，可以防止平板玻璃片的表面状态对比最底层高的层的影响，从而可以稳定地形成膜。