[发明专利]聚酰亚胺前体组合物、聚酰亚胺的制造方法、聚酰亚胺、聚酰亚胺膜和基板

权利要求书

1.一种聚酰亚胺前体组合物，其特征在于，

包含含有下述化学式(1)所示的重复单元或下述化学式(2)所示的重复单元且化学式(1)和(2)所示的重复单元以外的其他重复单元的含量相对于全部重复单元为30摩尔％以下的聚酰亚胺前体、和咪唑系化合物，

咪唑系化合物的含量相对于聚酰亚胺前体的重复单元1摩尔为0.05摩尔以上且1摩尔以下，

由该聚酰亚胺前体组合物得到的聚酰亚胺的厚度10μm的膜中的波长400nm的透光率为75％以上，

式(1)中，X₁为具有脂环结构的4价的基团，Y₁为具有芳香族环的2价的基团，R₁、R₂各自独立地为氢、碳原子数1～6的烷基或碳原子数3～9的烷基甲硅烷基，

式(2)中，X₂为具有芳香族环的4价的基团，Y₂为具有脂环结构的2价的基团，R₃、R₄各自独立地为氢、碳原子数1～6的烷基或碳原子数3～9的烷基甲硅烷基。

2.如权利要求1所述的聚酰亚胺前体组合物，其特征在于，所述聚酰亚胺前体的化学式(1)和(2)所示的重复单元以外的其他重复单元的含量相对于全部重复单元为10摩尔％以下。

3.如权利要求1或2所述的聚酰亚胺前体组合物，其特征在于，所述咪唑系化合物为2-苯基咪唑或苯并咪唑中的任意一种。

4.一种聚酰亚胺的制造方法，其特征在于，将权利要求1～3中任一项所述的聚酰亚胺前体组合物在最高加热温度超过350℃的条件下进行加热处理，将聚酰亚胺前体酰亚胺化。

5.如权利要求4所述的聚酰亚胺的制造方法，其特征在于，具有：

将权利要求1～3中任一项所述的聚酰亚胺前体组合物涂布到基材上的工序、和

将基材上的聚酰亚胺前体组合物在最高加热温度超过350℃的条件下进行加热处理而将聚酰亚胺前体酰亚胺化的工序。

6.如权利要求4或5所述的聚酰亚胺的制造方法，其特征在于，所述加热处理的最高加热温度超过400℃。

7.一种聚酰亚胺，其通过权利要求4～6中任一项所述的方法制造。

8.如权利要求7所述的聚酰亚胺，其特征在于，在厚度10μm的膜中的波长400nm的透光率为75％以上。

9.一种聚酰亚胺膜，其通过权利要求4～6中任一项所述的方法制造。

10.一种显示器用、触控面板用或太阳能电池用的基板，其特征在于，包含权利要求7或8所述的聚酰亚胺、或者权利要求9所述的聚酰亚胺膜。