[发明专利]显示设备及其制造方法

权利要求书

1.一种显示设备的制造方法，其特征在于，包括：

提供一数组基板，其中该数组基板包括多个次像素区，该些次像素区的每一者包括一第一组件区与一第二组件区；

进行一第一转置制程，藉由一第一载体将N个第一发光组件分别放置于该数组基板的N个次像素区中的该些第一组件区；

进行一第二转置制程，藉由一第二载体将X个第二发光组件分别放置于该数组基板的X个次像素区中的该些第二组件区；以及

进行一第三转置制程，藉由一第三载体将Y个第二发光组件分别放置于该数组基板的Y个次像素区中的该些第二组件区，其中该X个次像素区与该Y个次像素区不重叠，且该N个次像素区分别与该X个次像素区以及该Y个次像素区部分重叠，其中，X、Y为大于等于1的整数，N为大于等于2的整数。

2.如权利要求1所述的显示设备的制造方法，其特征在于，该第二载体与该第三载体具有不同的形状及/或面积。

3.如权利要求1所述的显示设备的制造方法，其特征在于，该第二载体与该第三载体的形状与面积相同，但分别承载不同数量的该些第二发光组件。

4.如权利要求1所述的显示设备的制造方法，其特征在于，该第一载体、该第二载体与该第三载体分别为高分子图章或静电吸盘。

5.如权利要求1所述的显示设备的制造方法，其特征在于，该些第一发光组件与该些第二发光组件的发光频谱实质上相同。

6.如权利要求1所述的显示设备的制造方法，其特征在于，更包括：

进行一第四转置制程，藉由一第四载体将Z个第二发光组件分别放置于该数组基板的Z个次像素区中的该些第二组件区，其中该X个次像素区、该Y个次像素区与该Z个次像素区不重叠，且该N个次像素区与该Z个次像素区部分重叠，其中，Z为大于等于1的整数。

7.如权利要求1所述的显示设备的制造方法，其特征在于，该些第一发光组件与该些第二发光组件的发光频谱不同。

8.一种显示设备，其特征在于，包括：

一数组基板，包括多个次像素区，其中该些次像素区沿一第一方向与一第二方向数组排列，且该些次像素区的每一者包括沿该第一方向排列的一第一组件区与一第二组件区；

多个第一发光组件，分别设置于该些次像素区中的该些第一组件区；以及

多个第二发光组件，分别设置于该些次像素区中的该些第二组件区，

其中，藉由一第一载体将N个第一发光组件分别放置于该数组基板的N个次像素区中的该些第一组件区，藉由一第二载体将X个第二发光组件分别放置于该数组基板的X个次像素区中的该些第二组件区，藉由一第三载体将Y个第二发光组件分别放置于该数组基板的Y个次像素区中的该些第二组件区，该X个次像素区与该Y个次像素区不重叠，且该N个次像素区分别与该X个次像素区以及该Y个次像素区部分重叠，于沿该第一方向排列的该些次像素区中，该些次像素区中任一者的相邻的该第一发光组件与该第二发光组件彼此之间具有在该第二方向上的第一偏移量，且在沿该第一方向排列的次像素区中，该第一偏移量具有至少三种的值，X、Y为大于等于1的整数，N为大于等于2的整数。

9.如权利要求8所述的显示设备，其特征在于，在沿该第一方向排列的次像素区中，至少有两个次像素区的该第一发光组件与该第二发光组件之间具有相同的该第一偏移量。

10.如权利要求8所述的显示设备，其特征在于，该第一偏移量的绝对值大于0μm且小于或等于3μm。

11.如权利要求8所述的显示设备，其特征在于，在沿该第二方向排列的该些次像素区中，任两相邻的次像素区中相邻的该第一发光组件彼此之间具有在该第一方向上的第二偏移量，且在沿该第二方向排列的该些次像素区中的该第二偏移量具有三种以上的值。