[发明专利]一种石墨烯薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种石墨烯薄膜的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

步骤一、将氧化石墨烯加入到混合溶剂中，然后在超声波振荡的条件下搅拌溶解，得到前驱液；所述前驱液中氧化石墨烯的浓度为0.1mg/mL～2mg/mL；所述混合溶剂由水与乙醇按照(1～5):5的体积比混合而成，或者由水与甲醇按照(1～5):5的体积比混合而成；

步骤二、向步骤一中得到的前驱液中加入球形金属颗粒或片状的金属，然后在紫外光辐照的条件下搅拌进行光催化的弱还原反应，再经静置后分层，得到的上层溶液为弱还原石墨烯胶体；所述金属为锌、铜、钛或Ti6Al4V；

步骤三、将步骤二中得到的弱还原石墨烯胶体涂布在基底上，得到附着在基底表面的弱还原石墨烯薄膜；

步骤四、将步骤三中得到的附着在基底表面的弱还原石墨烯薄膜置于密闭容器中，然后加入氢碘酸进行还原反应，再经真空干燥后得到石墨烯薄膜；所述还原反应的过程为：向附着在基底表面的弱还原石墨烯薄膜的下方滴加氢碘酸，然后将容器密闭并置于真空干燥箱中加热，氢碘酸挥发后与弱还原石墨烯薄膜接触反应。

2.根据权利要求1所述的一种石墨烯薄膜的制备方法，其特征在于，步骤一中所述混合溶剂由水与乙醇按照3:5的体积比混合而成。

3.根据权利要求1所述的一种石墨烯薄膜的制备方法，其特征在于，步骤三中所述涂布的方法为旋涂法或真空抽滤法。

4.根据权利要求3所述的一种石墨烯薄膜的制备方法，其特征在于，所述旋涂法采用的旋涂速度为500rpm～3000rpm，时间为30s～60s。

5.根据权利要求1所述的一种石墨烯薄膜的制备方法，其特征在于，步骤三中所述基底为玻璃、Si片、Al箔、PET或者微孔滤膜。

6.根据权利要求1所述的一种石墨烯薄膜的制备方法，其特征在于，步骤四所述还原反应的温度为90℃～100℃，时间为0.5h～1h。

7.根据权利要求1所述的一种石墨烯薄膜的制备方法，其特征在于，步骤四中所述真空干燥的温度为120℃～180℃，时间为0.5h～2h。