[发明专利]基板处理装置和基板处理方法有效

专利信息
申请号: 201811120882.X 申请日: 2018-09-26
公开(公告)号: CN109560018B 公开(公告)日: 2022-10-18
发明(设计)人: 古矢正明;山崎克弘;森秀树;林航之介 申请(专利权)人: 芝浦机械电子装置股份有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/687
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;邓毅
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种基板处理装置,其将多种处理液依次供给到基板上来处理基板,

其特征在于,

所述基板处理装置具有:

基板旋转构件,其保持着所述基板进行旋转;

处理液供给构件,其对借助所述基板旋转构件旋转的所述基板供给处理液;

液体承接部,其设置于所述基板的周围,接收从所述基板飞散的所述处理液;

杯体,其设置于所述基板的周围,且接收由所述液体承接部接收到的所述处理液;

各种回收通道,它们配置在所述杯体的周向上,与所述杯体接收的处理液的种类对应地供来自所述杯体的所述处理液流过;

转动构件,其使所述杯体以所述基板旋转构件的旋转轴为中心而水平转动,且将所述杯体切换到与所述处理液的种类相对应的回收通道所位于的方向;

升降构件,其使所述杯体沿上下方向升降而切换为第1高度位置和第2高度位置,其中,所述第1高度位置是使所述杯体和与所述处理液的种类对应的回收通道相连通的高度位置,所述第2高度位置是所述杯体不与所述回收通道连通,且使所述杯体接收的所述处理液流到废液通道中的高度位置;以及

控制部,在对从所述处理液供给构件供给的处理液进行切换时,在所述液体承接部接收所述处理液的状态下,所述控制部控制所述升降构件以使所述杯体定位在所述第2高度位置,并且控制所述转动构件以使所述杯体在与所述处理液的种类相对应的回收通道所位于的方向上水平转动。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,

所述杯体是上部开口的环状的容器,在所述杯体的下部形成有流出孔部,所述流出孔部用于使所述处理液流到所述回收通道或所述废液通道中。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于,

所述基板旋转构件的外周壁部、和配置在所述基板旋转构件的外周侧的液体承接部的内周壁部以规定长度插入所述杯体的所述开口中。

4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置,其特征在于,

所述回收通道是具有配置在所述基板的周向侧的端部开口的多个回收配管。

5.根据权利要求1至3中的任意一项所述的基板处理装置,其特征在于,

所述基板处理装置还具有各种排气通道,所述各种排气通道与所述处理液的种类对应地使含有所述处理液的气体从所述杯体流到外部,

在通过所述转动构件将所述杯体切换到与所述处理液的种类相对应的所述回收通道所位于的方向时,在所述杯体的外周面上形成的凹部形状的排气间隙和与所述处理液的种类相对应的排气通道连通。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置,其特征在于,

所述排气通道是具有配置在所述基板的周向侧的端部开口的多个排气配管。

7.根据权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于,

所述废液通道是将所述处理液向外部废弃的废液配管,处理液从被所述升降构件配置到第2高度位置处的所述杯体的所述流出孔部流到所述废液通道中。

8.根据权利要求1至3中的任意一项所述的基板处理装置,其特征在于,

所述转动构件具有:

支承部,其支承所述杯体;

转动部,其使所述支承部在所述基板旋转构件的旋转轴的周围水平转动;以及

驱动部,其驱动所述转动部。

9.根据权利要求7所述的基板处理装置,其特征在于,

所述升降构件是使所述转动构件升降的伸缩缸。

10.根据权利要求2或3所述的基板处理装置,其特征在于,

在所述杯体上设有从所述流出孔部朝向所述回收通道突出的突出部,在所述回收通道的所述流出孔部侧的端部形成有切口部,所述切口部与所述突出部以卡合的形式形状对应。

11.根据权利要求1至3中的任意一项所述的基板处理装置,其特征在于,

所述基板处理装置还具有对所述杯体的内部进行清洗的清洗机构。

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