[发明专利]电阻测定装置、基板检查装置以及电阻测定方法有效

专利信息
申请号: 201811122773.1 申请日: 2018-09-26
公开(公告)号: CN109557376B 公开(公告)日: 2023-05-16
发明(设计)人: 山下宗寛 申请(专利权)人: 日本电产理德股份有限公司
主分类号: G01R27/08 分类号: G01R27/08
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨贝贝;臧建明
地址: 日本京都府京都市右京区西京极*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电阻 测定 装置 检查 以及 方法
【说明书】:

发明提供一种电阻测定装置、基板检查装置以及电阻测定方法。电阻测定装置包括第一电流探针、第二电流探针,接触芯片侧电极;第一检测探针、第二检测探针,接触外向电极;电压检测部,对第一检测探针、第二检测探针间的电压进行检测;第一恒定电流源,正极与第一电流探针连接,负极与地面连接,输出第一电流值的电流;第二恒定电流源,正极与第一恒定电流源的负极及地面连接并与第一恒定电流源串联连接,负极与第二电流探针连接,输出与第一电流值实质上相同的第二电流值的电流;接地探针,使配线与地面导通;以及电阻取得部,根据由电压检测部所检测到的电压来取得配线的电阻。

技术领域

本发明涉及一种进行电阻测定的电阻测定装置、使用其的基板检查装置、以及电阻测定方法。

背景技术

之前,为了检查形成在印刷配线基板等基板上的配线图案,而测定配线图案的电阻值。作为配线图案的检查,有无断线的检查自不待言,也必须检测如配线图案的宽度变细、或厚度变薄般未达到断线的不良。为了检测此种未达到断线的不良,必须进行高精度的电阻测定。作为此种高精度的电阻测定方法,已知有使用四端子测定法的电阻测定装置。

例如,日本公开公报特开2004-184374号公报中记载的电阻测定装置具备:用于朝电阻测定对象的配线图案中流出电阻测定用的电流的一对接触探针(P1、P2)、及用于测定电阻测定部位的电压的一对接触探针(P3、P4)。

根据此结构,电阻测定用的电流不在电压测定用的接触探针P3、接触探针P4中流动,因此由接触探针P3、接触探针P4自身的电阻所引起的电压下降减少,可进行高精度的电阻测定。根据日本公开公报特开2004-184374号公报的图1,电流输出用的正极侧的接触探针P1与恒定电流源连接,负极侧的接触探针P2与电路接地(circuit ground)连接。

但是,在日本公开公报特开2004-184374号公报中记载的电阻测定装置中,电阻测定用的电流在负极侧的接触探针P2与测定对象体M的接触电阻中流动而产生电压。此电压相对于电压测定用的接触探针P3、接触探针P4变成共模电压(common mode voltage)(共模噪声)。接触探针P2的接触电阻Ro可变成100Ω左右,因此若将电阻测定用的电流i设为20mA,则共模电压Vc变成Ro×i=100Ω×20mA=2000mV(参照图7)。

另一方面,例如当测定对象为配线图案时,其电阻值Rx为1mΩ左右。于是,若电阻测定用的电流i为20mA,则由接触探针P3、接触探针P4所测定的测定电压Vm变成Rx×i=1mΩ×20mA=20μV=0.02mV(参照图7)。

于是,相对于共模电压,测定电压变成20log(测定电压/共模电压)=20log(0.02/2000)=-100dB。由接触探针P2的接触所产生的接触电阻不稳定,因此共模电压也不稳定地变动。测定电压相对于共模电压变成-100dB程度的微小电压,因此测定电压的测定精度受到共模电压的变动的影响而下降。其结果,存在根据测定电压所获得的电阻测定值的精度也下降这一不良情况。

另外,作为使共模电压变成零的方法,可想到如下的方法:如日本公开公报开2007-333598号公报中记载般,将共模电压反馈至运算放大器的反转放大电路中,由此通过运算放大器的输出来消除共模电压。图8是日本公开公报特开2007-333598号公报记载的图1中所记载的电路的等效电路图,以Ro来表示电流供给端子22、电流供给端子23及电压测量端子24、电压测量端子25的接触电阻等,以Co来表示寄生电容。

但是,在此种方法中,产生由成为反馈电路的电阻成分的Ro或寄生电容Co所引起的反馈的时间延迟、运算放大器的响应慢等,因此难以高速动作,消除不稳定地变动的共模电压并不容易。

发明内容

本发明的目的在于提供一种容易提升利用四端子测定法的电阻测定精度的电阻测定装置、基板检查装置、以及电阻测定方法。

[解决问题的技术手段]

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本电产理德股份有限公司,未经日本电产理德股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811122773.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top