[发明专利]浸没基体、浸没基体的应用和浸没设备

权利要求书

1.一种具有浸没基体(5)的装置，其构造用于调整所述装置的分界面处的光学性能，其中，所述浸没基体(5)在浸没基体(5)的材料(6)中具有多孔结构，所述多孔结构具有孔(7)和/或纳米孔(8)，所述孔(7)具有选自大于20nm至200μm范围的至少一个平均孔径，其中，纳米孔(8)具有选自0.5nm至20nm范围的至少一个平均孔径；

并且

用浸没液体(9)填充的浸没基体(5)具有选自0.1-800MPa的范围的弹性模量E；

其中，浸没基体(5)具有第一侧面(5.1)和与第一侧面(5.1)对置的第二侧面(5.2)并且被布置在光学元件的分界面之间，方式为浸没基体(5)以其侧面(5.1、5.2)之一与样本支架(2)直接接触并且以对置的侧面(5.1、5.2)与物镜(3)直接接触。

2.按权利要求1所述的具有浸没基体(5)的装置，其特征在于，至少一个孔径选自大于50nm至200μm的范围。

3.按权利要求2所述的具有浸没基体(5)的装置，其特征在于，至少一个孔径选自1μm至200μm的范围。

4.按权利要求1所述的具有浸没基体(5)的装置，其特征在于，纳米孔的平均孔径选自大于0.5nm至10nm的范围。

5.按权利要求1至4之一所述的具有浸没基体(5)的装置，其特征在于，用浸没液体(9)填充的浸没基体(5)的弹性模量E选自0.1-100MPa的范围。

6.按权利要求1至4之一所述的具有浸没基体(5)的装置，其特征在于，所述材料(6)具有选自1.4至1.8的范围内的折射率n_Mat。

7.按权利要求1至4之一所述的具有浸没基体(5)的装置，其特征在于，所述孔(7)是闭合的。

8.按权利要求1至4之一所述的具有浸没基体(5)的装置，其特征在于，所述孔(7)是开放的。

9.按权利要求1至4之一所述的具有浸没基体(5)的装置，其特征在于第一侧面(5.1)上的第一伸展尺寸和第二侧面(5.2)上的第二伸展尺寸，其中，第二侧面(5.2)的伸展尺寸大于第一侧面(5.1)的伸展尺寸。

10.按权利要求1至4之一所述的具有浸没基体(5)的装置，其特征在于，用浸没液体(9)填充所述孔(7)和存在的纳米孔(8)。

11.按权利要求10所述的具有浸没基体(5)的装置，其特征在于，这样选择浸没液体(9)，使得被填充的浸没基体(5)具有值在1.3至1.7的范围内的合成的折射率(n_res)。

12.按权利要求1至4之一所述的具有浸没基体(5)的装置，其特征在于在浸没基体的至少一侧上覆盖浸没基体(5)的加热元件/冷却元件(15)。

13.按权利要求1至4之一所述的具有浸没基体(5)的装置，其特征在于，至少一个与浸没基体(5)接触或者能够与浸没基体(5)接触的分界面具有对浸没基体(5)和/或浸没液体不粘的表面。

14.一种将按权利要求1至13之一所述的具有浸没基体(5)的装置用于样本(1)的显微镜检查的应用，其中，至少一个照明光束和/或探测光束穿过浸没基体(5)地定向。

15.一种浸没设备，包括按权利要求1至13之一所述的具有浸没基体(5)的装置、用于储存和提供浸没液体(9)的储存容器(11)以及用于将浸没液体(9)供给浸没基体(5)的介质管路(12)。