[发明专利]一种无悬镍无引线PCB制作工艺有效

专利信息
申请号: 201811125951.6 申请日: 2018-09-26
公开(公告)号: CN109219253B 公开(公告)日: 2021-02-05
发明(设计)人: 彭利娟;雷明权 申请(专利权)人: 东莞美维电路有限公司
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;H05K3/06;H05K3/24
代理公司: 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 代理人: 杨育增
地址: 523000 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 无悬镍无 引线 pcb 制作 工艺
【权利要求书】:

1.一种无悬镍无引线PCB制作工艺,用于制作具有抗蚀层的PCB,其特征在于,包括以下步骤:

(1)、开料,选择合适拼板和切板方式,该拼板包括内层基板、附于内层基板一表面上的CS面铜箔、附于内层基板另一表面的SS面铜箔,拼板上设有VIP孔,所述VIP孔的孔壁上设有铜层,用于连接CS面铜箔和SS面铜箔,所述VIP孔内塞有树脂,所述CS面铜箔设有图形区域和非图形区域;

(2)、外层干膜,采用丝印的形式,在CS面铜箔的非图形区域涂上油墨,利用紫外光的照射,使油墨硬化,形成干膜;

(3)、图形电镀,在SS面铜箔及CS面铜箔的图形区域电镀一层铜层,增大SS面铜箔及CS面铜箔的图形区域的铜层厚度;

(4)、外层蚀刻,采用药水将CS面铜箔上的非图形区域蚀刻掉,去除CS面铜箔上非图形区域的铜层;

(5)、外层干膜,在SS面铜箔上生成干膜,以保护SS面铜箔;

(6)、电厚硬金,在CS面铜箔表面电镀一层硬金,形成一抗蚀层;

(7)、沉金退膜,通过化学沉积,在抗蚀层表面进行沉金处理,完成处理后,采用化学药水去除SS面铜箔上的干膜;

(8)、外层干膜,采用丝印的形式,在CS面铜箔及SS面铜箔上生成干膜,其中,SS面铜箔上同样设有图形区域及非图形区域,其中,干膜盖住CS面铜箔的图形区域及SS面铜箔的图形区域;

(9)、内层蚀刻,蚀刻掉SS面铜箔非图形区域的铜层部分,完成后,去除干膜。

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