[发明专利]一种橡胶基底有机陶瓷磨块及其制备方法有效
申请号: | 201811126170.9 | 申请日: | 2018-09-26 |
公开(公告)号: | CN109333390B | 公开(公告)日: | 2023-08-01 |
发明(设计)人: | 徐莹;林侠;陈浩 | 申请(专利权)人: | 东莞市鼎泰鑫电子有限公司 |
主分类号: | B24D99/00 | 分类号: | B24D99/00;B24D18/00;C09D175/14;C09D7/61;C09D7/63 |
代理公司: | 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 | 代理人: | 李慧 |
地址: | 523000 广东省东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 橡胶 基底 有机 陶瓷 及其 制备 方法 | ||
1.一种橡胶基底有机陶瓷磨块,其特征在于:包括陶瓷磨块基体、粘合于陶瓷磨块基体上方的粘合层以及粘合于粘合层上方的橡胶层,所述粘合层从下到上依次设置为乙烯基硅烷偶联剂涂层、无溶剂光固化丙烯酸树脂涂层以及PU热熔胶覆盖膜;所述无溶剂光固化丙烯酸树脂涂层由如下重量份原料制成,聚氨酯型丙烯酸酯树脂 100份,光敏剂3-8份,疏水纳米二氧化硅2-5份,辉绿岩15-22份,增塑剂5-8份,稳定剂5-8份,防腐剂1-2份,增韧剂2-5份以及抗氧剂2-5份。
2.根据权利要求1所述的一种橡胶基底有机陶瓷磨块,其特征在于:所述光敏剂为芳基硫铃盐和二苯酮以重量比为(1-5):1组成的混合物。
3.根据权利要求1所述的一种橡胶基底有机陶瓷磨块,其特征在于:所述疏水纳米二氧化硅由如下方法制成:将亲水性纳米二氧化硅粉体滴加到乙醇和水的混合溶液中分散均匀后,再在溶液中加入巯基硅烷和乙烯基硅烷,逐渐升温到120-130℃,搅拌反应3.5-5h,降温到室温,离心,洗涤,干燥即得到疏水纳米二氧化硅。
4.根据权利要求3所述的一种橡胶基底有机陶瓷磨块,其特征在于:所述亲水性纳米二氧化硅粉体为100重量份,乙醇50-100重量份,水5-10重量份,巯基硅烷5-10重量份,乙烯基硅烷5-10重量份。
5.根据权利要求1-4任一所述的橡胶基底有机陶瓷磨块的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)取合适大小的陶瓷磨块基体,在所述陶瓷磨块基体表面涂覆用蒸馏水稀释后的乙烯基硅烷偶联剂,然后置于100-130℃的环境下进行烘烤2-5min,在陶瓷磨块基体表面上形成乙烯基硅烷偶联剂涂层;(2)将无溶剂光固化丙烯酸树脂涂覆于乙烯基硅烷偶联剂层的表面,置于波长为250-405nm的紫外光条件下照射1-3min形成无溶剂光固化丙烯酸树脂涂层;(3)在无溶剂光固化丙烯酸树脂涂层的表面叠合PU热熔胶覆盖膜;(4)在PU热熔胶覆盖膜上叠合橡胶层,并在100-150℃的条件下压合30-60s,完成熔融粘合。
6.根据权利要求5所述的橡胶基底有机陶瓷磨块的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中所述乙烯基硅烷偶联剂用蒸馏水稀释后的有效成份为(3-5)%,涂覆量为15-20g/m2。
7.根据权利要求5所述的橡胶基底有机陶瓷磨块的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中乙烯基硅烷偶联剂涂层的厚度为10-20um。
8.根据权利要求5所述的橡胶基底有机陶瓷磨块的制备方法,其特征在于:所述步骤(2)中无溶剂光固化丙烯酸树脂涂层的厚度为10-20um。
9.根据权利要求5所述的橡胶基底有机陶瓷磨块的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)中PU热熔胶覆盖膜的厚度为30-50um。
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