[发明专利]一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置

权利要求书

1.一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，其特征在于：包括超声波清洗机(1)、高温高压老化烤箱(4)、支撑板(12)、放料机构、升降机构和移动机构，所述超声波清洗机(1)一侧的地面(7)上安装有支撑板(12)，且超声波清洗机(1)另一侧的地面(7)上安装有风干框(2)，所述高温高压老化烤箱(4)位于风干框(2)一侧，且风干框(2)内壁两侧安装有多个风扇机(3)；

所述放料机构包括方体斗框(14)、长方体框(15)、第二电动推杆(16)、圆弧条框(17)和第一电动推杆(13)，所述方体斗框(14)底部端口安装在长方体框(15)顶部端口，且长方体框(15)两侧底部中间位置活动安装有第二电动推杆(16)一端，所述长方体框(15)顶部端口两侧活动安装有两个圆弧条框(17)，且圆弧条框(17)外侧圆弧面中部活动安装在第二电动推杆(16)的伸缩杆一端，所述第一电动推杆(13)的伸缩杆一端安装在长方体框(15)一侧表面中部；

所述升降机构包括第三电动推杆(19)、圆杆(8)、承载方板(9)和条形侧板(10)，所述承载方板(9)放置在超声波清洗机(1)内底部，且承载方板(9)顶部四角处均垂直安装有圆杆(8)，所述圆杆(8)一端通过连接杆与对应的第三电动推杆(19)的伸缩杆一端连接，所述承载方板(9)顶部等距安装有多组条形侧板(10)，且每组设有两个所述条形侧板(10)，每组两个所述条形侧板(10)垂直对称安装在承载方板(9)顶部表面；

所述移动机构包括U型长板(18)、导轨(6)、单槽轮(21)和伺服电机(22)，所述导轨(6)设有两个，且两个所述导轨(6)平行位于超声波清洗机(1)两侧，所述U型长板(18)内对称安装有两个单槽轮(21)，且U型长板(18)通过单槽轮(21)与对应的导轨(6)滚动连接，所述U型长板(18)一侧安装有伺服电机(22)，且伺服电机(22)的轴杆安装在单槽轮(21)一侧的轴杆一端，所述U型长板(18)顶部垂直对称安装有两个第三电动推杆(19)；所述第一电动推杆(13)安装在支撑板(12)一侧顶部，且第一电动推杆(13)的伸缩杆一端穿过支撑板(12)内侧表面。

2.根据权利要求1所述的一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，其特征在于：所述承载方板(9)顶部每组的两个条形侧板(10)之间对称竖直安装有两个网格板(20)，且两个所述网格板(20)之间的距离大于压电陶瓷基片的厚度。

3.根据权利要求1所述的一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，其特征在于：所述长方体框(15)的端口宽度等于一个压电陶瓷基片的厚度。

4.根据权利要求1所述的一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，其特征在于：所述圆弧条框(17)为圆筒的四分之一结构，且两个所述圆弧条框(17)之间展开的宽度等于压电陶瓷基片的厚度。

5.根据权利要求1所述的一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，其特征在于：所述导轨(6)部分位于风干框(2)内底部的地面(7)上，且其中一个导轨(6)一侧的地面(7)上等距放置有多个高温高压老化烤箱(4)。

6.根据权利要求1所述的一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，其特征在于：所述超声波清洗机(1)一侧安装有清洗控制面板(11)，且超声波清洗机(1)的放置端口为长方形结构。

7.根据权利要求1所述的一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，其特征在于：所述高温高压老化烤箱(4)一侧安装有控温操作面板(5)，且高温高压老化烤箱(4)内部放置空间大于承载方板(9)与条形侧板(10)形成的立体空间。

8.根据权利要求1所述的一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，其特征在于：所述第一电动推杆(13)、第二电动推杆(16)及第三电动推杆(19)分别安装有对应的编码器，且第一电动推杆(13)、第二电动推杆(16)及第三电动推杆(19)分别通过导电线与外接电源电性连接。

9.根据权利要求1所述的一种用于压电元件的压电陶瓷基片处理装置，其特征在于：所述连接杆两端分别与第三电动推杆(19)的伸缩杆一端螺栓连接及圆杆(8)一端螺栓连接，且第三电动推杆(19)的伸缩杆一端和圆杆(8)一端均开设有连接孔。