[发明专利]一种透明石墨烯薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种石墨烯透明薄膜的制备方法，其特征在于：首先以液相剥离法制备的石墨烯纳米分散液出发，通过引入一种两亲性的高分子表面活性剂，使得石墨烯纳米片从原始分散液转移到易挥发的有机溶剂当中并形成稳定的石墨烯分散液；然后，利用LB成膜技术在基底上制备不同层数的石墨烯透明薄膜；所述的一种两亲性的高分子表面活性剂，包含聚还氧乙烷链段作为亲水嵌段，其包含10～40个重复单元；所述两亲性的高分子表面活性剂也包含聚环氧丙烷链段作为疏水嵌段，其包含3～20个重复单元；所述两亲性的高分子表面活性剂的疏水嵌段中还包含疏水基团苯并恶嗪基团和/或聚胺酯基团。

2.如权利要求1所述的一种石墨烯透明薄膜的制备方法，其特征在于：所述液相剥离法制备的石墨烯纳米分散液，指在溶液中利用超声或者剪切作用制备石墨烯纳米片分散液，包括在表面张力适宜的有机溶剂中，或者在添加稳定剂的有机溶剂中，又或者在添加稳定剂的水溶液中，还或者在添加或不添加稳定剂的水与极性有机溶剂的混合溶液中。

3.如权利要求1所述的一种石墨烯透明薄膜的制备方法，其特征在于：所述易挥发的有机溶剂是氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷、甲醇或乙醇。

4.如权利要求1所述的一种石墨烯透明薄膜的制备方法，其特征在于：所述的基底是玻璃片、硅片或聚酯薄膜。

5.如权利要求1所述的一种石墨烯透明薄膜的制备方法，其特征在于：所述石墨烯透明薄膜为1～100层。

6.如权利要求1所述的一种石墨烯透明薄膜的制备方法，其特征在于：包含一个图案化过程，根据需要擦除不需要的薄膜部份或利用掩模板法进行等离子体刻蚀，自由控制石墨烯薄膜的尺寸或者图案。

7.如权利要求1所述的一种石墨烯透明薄膜的制备方法，其特征在于：包含一个40℃～600℃的热处理过程或60％HNO3的强酸处理过程，除去吸附的表面活性剂。

8.如权利要求1所述的一种石墨烯透明薄膜的制备方法，其特征在于：能够适用于其它的二维或准二维纳米片二硫化钼、氮化硼或二氧化锰。