[发明专利]一种膜层图案化的方法、有机发光二极管的制备方法有效

专利信息
申请号: 201811138931.2 申请日: 2018-09-28
公开(公告)号: CN109285764B 公开(公告)日: 2022-08-19
发明(设计)人: 杨剑波;熊黎;唐成 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027;H01L27/32;H01L21/77
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 柴亮;张天舒
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 图案 方法 有机 发光二极管 制备
【说明书】:

发明提供一种膜层图案化的方法、有机发光二极管的制备方法,属于显示技术领域,其可解决现有工艺无法实现光刻胶层图案化后的隔离柱的坡度角>90°的问题。本发明的膜层图案化的方法是在曝光显影后,采用反向固化的方式进行固化,由于未被完全固化的第一图案结构受重力作用,存在向下流动的趋势,故在其被逐渐固化过程中依靠重力方向的自然力,使得最终固化后的第二图案结构靠近衬底的一面的面积小于其背离衬底的一面的面积,在固化过程中得到倒梯形的形状,其中第二图案结构的背离衬底的一侧的面积较大,相当于该方法得到了较大的坡度角,将该方法用于制备OLED的隔离柱,有利于后续形成有机发光单元后隔离衬底一侧的水氧。

技术领域

本发明属于显示技术领域,具体涉及一种膜层图案化的方法、有机发光二极管的制备方法。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)显示产品,通常包括设于衬底上的控制电路,以及设于控制电路上方的有机发光单元,为了避免在镀膜形成有机发光单元的过程中,蒸镀对下方的控制电路产生不良影响,通常在控制电路与有机发光单元之间设置隔离柱,以将控制电路与有机发光单元分隔。

现有的隔离柱一般是利用光刻技术,如图1所示,在衬底10上涂覆光刻胶11(包含感光剂、聚酰亚胺前驱体、溶剂PGME/PGMEA等)形成光刻胶膜层,然后经过曝光、显影、固化形成包括多个隔离柱12的图案。

发明人发现现有技术中至少存在如下问题:受工艺影响,光刻胶10经过烤箱烘烤固化后,最终成型的隔离柱12的图案的坡度角β一般为30°~50°,这样不利于衬底10一侧防止水氧,而现有工艺无法实现坡度角>90°。

发明内容

本发明针对现有工艺无法实现光刻胶层图案化后的隔离柱的坡度角>90°的问题,提供一种膜层图案化的方法、有机发光二极管的制备方法。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是:

一种膜层图案化的方法,包括以下步骤:

在衬底的第一面上涂覆含有感光剂的透明材料,形成感光膜层;

对感光膜层进行曝光、显影得到多个第一图案结构;

将完成上述步骤的衬底反向设置,使在重力方向上,衬底和第一图案结构依次设置;

由衬底的第二面的一侧进行固化得到多个第二图案结构,以使第二图案结构靠近衬底的一面在衬底上的正投影落入其背离衬底的一面在衬底上的正投影的范围内。

可选的是,所述在形成感光膜层之后,对感光膜层进行曝光之前还包括:在感光膜层背离衬底的一侧进行加热的步骤。

可选的是,所述加热温度为100℃-140℃,加热时间为130s-180s。

可选的是,所述形成感光膜层包括:形成多层叠置的子膜层;所述对感光膜层进行曝光、显影包括:每形成一层子膜层就采用不同的掩膜版分别进行曝光,曝光所有子膜层后进行显影;且越远离衬底一侧的子膜层的曝光区逐渐增大或逐渐减小。

可选的是,所述感光剂包括所述聚合物材料包括聚酰亚胺前驱体、溶剂(PGME/PGMEA)。

本发明的还提供一种图案化的结构层,其包括采用上述的方法形成的多个第二图案结构。

可选的是,固化前所述第一图案结构与衬底的坡度角α1的范围为:120°<α1<160°。

可选的是,固化后所述第二图案结构与衬底的坡度角α2的范围为:90°<α2<140°。

本发明还提供一种有机发光二极管的制备方法,包括采用上述的方法形成多个第二图案结构作为隔离柱的步骤。

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