[发明专利]一种基于方华层增强石墨烯与柔性基底界面的方法在审

专利信息
申请号: 201811139154.3 申请日: 2018-09-28
公开(公告)号: CN110963486A 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 王韫璐;赵沛;王宏涛 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: C01B32/194 分类号: C01B32/194
代理公司: 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人: 徐关寿
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 方华层 增强 石墨 柔性 基底 界面 方法
【权利要求书】:

1.一种基于方华层增强石墨烯与柔性基底界面的方法,包括步骤:

1)使用方华粉与三氯甲烷混合得到方华溶液,方华粉与三氯甲烷的质量百分比为1:50~1:100;方华粉指的是聚乙烯醇缩甲醛粉末;

2)获取生长有石墨烯薄膜的铜箔,将石墨烯薄膜浸入方华溶液,静置3~7s,将铜箔取出晾干;石墨烯与方华溶液接触后、石墨烯表面形成一层方华膜;

3)将目标柔性基底与方华膜贴合;

4)用FeCl3溶液将铜箔溶解,FeCl3溶液的浓度为1mol/L;

5)用去离子水清洗残留在柔性基底上的FeCl3溶液2~3次,晾干。

2.如权利要求1所述的增强石墨烯与柔性基底界面的方法,其特征在于:步骤1)中,方华粉与三氯甲烷的质量百分比为1:100。

3.如权利要求1所述的增强石墨烯与柔性基底界面的方法,其特征在于:骤2)中,石墨烯垂直浸入方华溶液,并且从方华溶液中垂直取出。

4.如权利要求1所述的增强石墨烯与柔性基底界面的方法,其特征在于:步骤2)的静置时间为5s。

5.如权利要求1所述的增强石墨烯与柔性基底界面的方法,其特征在于:在步骤2)之前还包括步骤:使用氮气枪清除石墨烯薄膜表面的杂质。

6.如权利要求1所述的增强石墨烯与柔性基底界面的方法,其特征在于:在步骤2)之前还包括步骤:将铜箔背向石墨烯薄膜的一面贴紧并固定在载玻片上。

7.如权利要求6所述的增强石墨烯与柔性基底界面的方法,其特征在于:,该制作方法在步骤3)和步骤4)之间还包括步骤:将目标柔性基底朝上,用滚轮轻碾目标柔性基底;或者,铜箔朝上,用滚轮轻碾铜箔。

8.如权利要求1所述的增强石墨烯与柔性基底界面的方法,其特征在于:步骤4)中,FeCl3溶液溶解铜箔的方式为:将铜箔水平放置并铜箔朝下,将铜箔浸入FeCl3溶液;或者,将FeCl3溶液涂在铜箔表面。

9.如权利要求1所述的增强石墨烯与柔性基底界面的方法,其特征在于:步骤3)中,目标柔性基底是聚二甲基硅氧烷(PDMS),聚对苯二甲酸乙二酯(PET)或聚乙烯(PE)。

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