[发明专利]一种AOI缺陷检测系统的性能调节方法

权利要求书

1.一种AOI缺陷检测系统的性能调节方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：根据实际缺陷制作若干个具有不同的参变量的模拟缺陷样本，所述参变量包括尺寸和对比度中的任一种或两种；若干所述模拟缺陷样本的缺陷尺寸或对比度呈梯度变化且须覆盖允许的最小检出规格；

拍摄所述模拟缺陷样本的图片，通过图像处理检测模拟缺陷的像素大小和/或对比度，判断所述模拟缺陷的像素大小是否小于等于其对应的实际缺陷的像素大小，和/或，所述模拟缺陷的对比度值小于等于其对应的实际缺陷的对比度，若是，则进入步骤S2；若否，则返回步骤S1；

S2：采集模拟缺陷样本的图像并对其进行缺陷检测，标记出各个缺陷区域并分别计算所述缺陷区域的对比度和/或尺寸；检测过程中对图像处理算法进行调整以使AOI缺陷检测系统的检出限满足所述最小检出规格：对各个缺陷区域进行噪声过滤，得到对比度不小于最小检出对比度，和/或尺寸不小于最小检出尺寸的缺陷区域。

2.如权利要求1所述的AOI缺陷检测系统的性能调节方法，其特征在于，步骤S2之后还包括以下步骤：

根据调整后的图像处理算法对一定量的实际缺陷样本进行检测，根据检测结果统计过检率和/或漏检率并评估其是否小于等于预设的检出标准，若是，则检测结束；若否，则返回步骤S2。

3.如权利要求1所述的AOI缺陷检测系统的性能调节方法，其特征在于，步骤S2中，缺陷检测的过程包括以下步骤：

S21.对图像进行全局亮度校正，并进行亮度归一化操作；

S22.通过多项式曲面拟合的方式进行图像增强操作；

S23.使用均值滤波对图像进行平滑处理；

S24.使用动态阈值分割方式对图像进行检测，标记出各个缺陷区域。

4.如权利要求1所述的AOI缺陷检测系统的性能调节方法，其特征在于，所述参变量还包括缺陷位置；将模拟缺陷样本划分为若干个单元格，在每个所述单元格的中心位置放置缺陷来制备缺陷位置不同的模拟缺陷样本；采集所述模拟缺陷样本的图像并对其进行缺陷检测，检测过程中对图像处理算法进行调整以使AOI缺陷检测系统能够检测出边缘位置的模拟缺陷。

5.如权利要求1所述的AOI缺陷检测系统的性能调节方法，其特征在于，所述参变量还包括缺陷形状，模拟缺陷样本中的模拟缺陷的形状包括圆形、椭圆形、线状、团状；采集所述模拟缺陷样本的图像并对其进行缺陷检测，检测过程中对图像处理算法进行调整以使AOI缺陷检测系统能够检测出各种形状的模拟缺陷。

6.如权利要求1所述的AOI缺陷检测系统的性能调节方法，其特征在于，所述模拟缺陷样本中的模拟缺陷采用高纯钨丝材料制作而成，所述高纯钨丝材料包括高纯钨丝和高纯钨金属粒。