[发明专利]一种薄膜热控涂层近紫外辐射下性能退化预测方法有效
| 申请号： | 201811141609.5 | 申请日： | 2018-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN109490179B | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 杨生胜;田海;薛华;把得东;冯展祖 | 申请（专利权）人： | 兰州空间技术物理研究所 |
| 主分类号： | G01N17/00 | 分类号： | G01N17/00;G06F30/20 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 李微微;仇蕾安 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 涂层 紫外 辐射 性能 退化 预测 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种薄膜热控涂层近紫外辐射下性能退化预测方法，其特征在于，包括如下步骤：
对薄膜热控涂层开展紫外辐射试验，获取不同辐照剂量t下薄膜热控涂层的太阳吸收比α；将试验获得的多组辐照剂量t与对应的太阳吸收比α代入到性能退化预测模型：α＝1-exp[A+B exp(-t/τ)]；其中τ为时间常量；
然后拟合得到预测模型中参数A和B的值，由此得到性能退化预测模型的表达式，由此对薄膜热控涂层近紫外辐射下性能退化进行预测；
其中，参数A为A＝ln(1-α0)-B；参数B为B＝2Dff[1-exp(-T/D)]；
其中，α0为材料紫外辐照作用前的初始太阳吸收比，D为近紫外辐射的作用深度，假定材料的总厚度为T，ff为增加的吸收系数的饱和值。
2.如权利要求1所述的一种薄膜热控涂层近紫外辐射下性能退化预测方法，其特征在于，所述紫外辐照试验中，采用汞氙灯作为紫外辐射试验中的紫外光源。
3.如权利要求1所述的一种薄膜热控涂层近紫外辐射下性能退化预测方法，其特征在于，所述紫外辐照试验中，紫外辐照的剂量从0到15000ESH逐渐升高。
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