[发明专利]保护膜

权利要求书

1.一种保护膜，包括膜基材和位于所述膜基材的一侧表面上的压敏胶层，其特征在于，所述压敏胶层包括第一胶区和位于所述第一胶区外围的第二胶区，所述第二胶区的部分或全部的远离所述膜基材的一侧表面上设置有减粘层，所述减粘层的原料包括以硅氧键为主链的低聚物，所述压敏胶层的原料包括反应型聚硅氧烷，且所述减粘层的达因值小于所述压敏胶层的达因值；

所述减粘层的原料包括具有式I所示结构的低聚物：

所述式I中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆及R₇均为惰性官能团，P为第一反应型官能团，n为0～1500；

所述反应型聚硅氧烷具有式II所示结构：

所述式II中，R₈和R₉分别独立地选自第二反应型官能团，m为20～100。

2.根据权利要求1所述的保护膜，其特征在于，所述第二胶区远离所述膜基材的一侧表面为平整表面、曲面、弯折表面或粗糙表面。

3.根据权利要求1或2所述的保护膜，其特征在于，所述减粘层设置在所述第二胶区的部分或全部的远离所述膜基材的一侧表面上，且所述减粘层远离所述第二胶区的表面平齐于、或低于、或高于所述第一胶区远离所述膜基材的一侧表面。

4.根据权利要求1所述的保护膜，其特征在于，所述第一反应型官能团为丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基、烯丙基、环氧基、氰基、羧基或羟基。

5.根据权利要求1或4所述的保护膜，其特征在于，所述惰性官能团为C₁～C₁₂的直链或支链烷基。

6.根据权利要求5所述的保护膜，其特征在于，所述惰性官能团甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基或异丁基。

7.根据权利要求1所述的保护膜，其特征在于，所述减粘层的原料为Slitech公司的Silsurf A010-D、Silub TMP D218、Silquat D208-CDA、Silmer OH C50、Silmer ACR D208、Silmer NCO Di-100、Silmer EP Di-50、毕克公司的UV3500系列产品、赢创公司的UV2700系列产品、迈图公司的UV9300、UV9430、蓝星公司的POLY360及PLOY200中一种或几种。

8.根据权利要求1所述的保护膜，其特征在于，所述第二反应型官能团为丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基、烯丙基、环氧基、氰基、羧基或羟基。

9.根据权利要求1所述的保护膜，其特征在于，所述保护膜还包括耐磨导电功能层，所述耐磨导电功能层位于所述膜基材的远离所述压敏胶层的一侧表面上。

10.根据权利要求9所述的保护膜，其特征在于，按重量百分含量计，所述耐磨导电功能层的材料包括25～35％的含有6至10个官能团的聚氨酯丙烯酸酯、1～5％的季铵盐类或锂胺盐类物质、1～5％的α-羟基酮类引发剂、1～5％的酰基膦氧化物类引发剂及60～70％的酮类或脂类溶剂。

11.根据权利要求1所述的保护膜，其特征在于，所述膜基材为PI层、PET层、TPU层或PVC层。