[发明专利]一种赖氨酸修饰的二氧化硅粒子制备及提取DNA方法

说明书

本发明专利公布了一种赖氨酸修饰的二氧化硅粒子制备及提取DNA方法，所需材料及试剂包括：二氧化硅粒子、去离子水、乙醇、氨水、氢氧化钠、醋酸、正硅酸乙酯、γ‑丙基三甲氧基硅烷、缓冲溶液，所需设备包括：三颈瓶、离心管、离心机、水浴箱、透射电镜、真空干燥箱、pH计。本发明采用Stober来制备二氧化硅粒子，避免了以往方法导致的氨基、羧基比例难以调节的弊端，针对不同DNA，选择合适的pH环境进行吸附和脱附，各项材料可提前预制且便于保存，材料廉价，提供一种耗时较少、操作简便、成本更低、精度更高的赖氨酸修饰的二氧化硅粒子制备及提取DNA方法。

技术领域

本发明涉及DNA提取领域，尤其涉及赖氨酸修饰的二氧化硅粒子制备及提取DNA方法。

背景技术

随着现代科学技术的发展，该领域的技术日新月异，焕然一新，生物技术也得到了长远的发展，而生物技术中的DNA提取与纯化，更是生物技术的核心技术之一，作为医学、生化、分子生物学进行相关研究的基础，DNA提取与纯化技术的重要性非同寻常。

DNA是绝大部分生物的遗传物质，直接影响甚至决定着生物的所有性状，对DNA进行研究有利于人们探索生命的秘密，进而开发出新的医疗手段和疾病诊断方法，这就要求对DNA进行提取和纯化，随着相关技术的进步，DNA的提取和纯化也得到了发展，已经摆脱了传统方法所带来的一些的缺陷。

对于DNA的提取与纯化，目前常用的方法有盐桥法，该方法首先将DNA与硅基质混合，由于DNA与硅基质之间存在静电，二者不能结合，向溶液中加入高浓度的盐，利用盐的静电屏蔽掉二者之间的斥力，使得DNA能够吸附在硅基质表面，然后再将盐分洗脱掉，去除了静电屏蔽作用，使得斥力恢复，DNA便从硅基质上脱落下来，完成DNA的提取，但该方法提取效率低并且不能进行小片段的DNA提取；直接静电法，通过化学反应使得基质粒子表面带有与DNA互相吸引的电荷，借助静电引力将DNA吸附在基质表面，但同样由于静电引力，使得DNA不能脱附，故提取效率不高，虽然可通过反转电荷的固相基质解决该问题，但过程繁琐且最佳提取条件需要进一步研究探讨才能决定，因此该技术并不成熟，尚不适合实际应用。

虽然现有方法也能够进行DNA提取，但通过分析发现其存在操作繁琐、DNA提取效率低、提取时间长、小片段DNA提取效果差等缺点，有待技术升级，进行进一步的优化。

发明内容

本发明的目的是解决DNA片段提取过程中操作步骤繁多、耗时长、提取效率低、提取DNA的精度和纯度低问题，提供一种耗时较少、操作简便、成本更低、精度更高的赖氨酸修饰的二氧化硅粒子制备及提取DNA方法。

本发明所采用的技术方案：一种赖氨酸修饰的二氧化硅粒子制备及提取DNA方法，所需材料及试剂包括：二氧化硅粒子、去离子水、乙醇、氨水、氢氧化钠、醋酸、正硅酸乙酯、γ-丙基三甲氧基硅烷、缓冲溶液，所需设备包括：三颈瓶、离心管、离心机、水浴箱、透射电镜、真空干燥箱、pH计，所述二氧化硅粒子为利用Stober方法自行制备，性能优越，氨基与羧基比例为1：1；所述缓冲溶液根据工艺的需要有两种，一种是促进二氧化硅粒子吸附DNA片段的低pH值的0.02M缓冲溶液，另一种是促进二氧化硅粒子脱附DNA片段的高pH值的0.02M缓冲溶液，具体pH值视DNA片段类型而定；所述透射电镜型号为JEM-1200；所述离心机型号为Sigma1-14；所述pH计型号为SartoriusPB-20；所述真空干燥箱为DZG-6020。

本发明一种赖氨酸修饰的二氧化硅粒子制备及提取DNA方法布置如下：